Epitaxial Growth and Electrical Property of Compositionally-modulated Boride Thin Films

成分调制硼化物薄膜的外延生长和电性能

基本信息

  • 批准号:
    21560029
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

In this study, epitaxial thin film of various hexaboride series including LaB6, BaB6, SrB6, CaB6,(La, Sr) B6, and(Sr, Ca) B6 s were fabricated successfully by means of laser molecular beam epitaxy(laser MBE). These epitaxial boride thin films are expected wide applications such as thermoelectric conversion materials, a high current density field emission flat source, and high-temperature electronic devices. Through the various film processing such as substrate-surface engineering were applied for development of film epitaxy, we could obtain the knowledge on the new material science concerning with the crystal growth of boron-octahedron cluster structure.
本研究利用激光分子束外延技术成功地制备了LaB6、BaB6、SrB6、CaB6、(La,Sr)B6和(Sr,Ca)B6系列六硼化物外延薄膜。这些硼化物薄膜在热电转换材料、高电流密度场发射平面源、高温电子器件等方面有着广泛的应用前景。通过各种薄膜处理技术如衬底表面工程学的应用,发展薄膜外延技术,我们可以获得与硼八面体簇结构晶体生长有关的新材料科学知识。

项目成果

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Constriction of lattice constant in epitaxial magnesium oxide thin film
外延氧化镁薄膜晶格常数的收缩
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Kaneko;T. Nagano;K. Akiyama;T. Ito;M. Yasui;Y. Hirabayashi;H. Funakubo;and M. Yoshimoto
  • 通讯作者:
    and M. Yoshimoto
Crystal Growth Control of Functional Oxide Thin Films on Nanopatterned Substrate Surfaces
纳米图案基底表面上功能性氧化物薄膜的晶体生长控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Akita;Y. Sugimoto;K. Kobayashi;T. Suzuki;H. Oi;M. Mita and M. Yoshimoto
  • 通讯作者:
    M. Mita and M. Yoshimoto
Nanoimprint Fabrication and Thermal Behavior of Atomically Ultrasmooth Glass Substrate with 0.2nm-Height Steps
0.2nm 高度台阶的原子级超光滑玻璃基板的纳米压印制造和热行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y.Miyake;Y.Akita;H.Oi;M.Mita;S.Kaneko;K.Koyama;K.Sunagawa;K.Tada;Y.Hirai;M.Yoshimoto
  • 通讯作者:
    M.Yoshimoto
PLDによる不純物ドープMgOエピタキシャル薄膜の室温合成と評価
PLD 掺杂 MgO 外延薄膜的室温合成与评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    坂本純一;et al.;春木一夫,渡辺将章,佐藤英樹,齋藤弥八;荒井秀樹,加藤侑志,白石尚輝,土嶺信男,小林晋,吉本護
  • 通讯作者:
    荒井秀樹,加藤侑志,白石尚輝,土嶺信男,小林晋,吉本護
Room-Temperature Epitaxial Growth of (Li,Ni)O Thin Film with Li Content up to 60 mol %
室温%20外延%20生长%20of%20(Li,Ni)O%20薄%20薄膜%20with%20Li%20含量%20up%20to%2060%20mol%20%
  • DOI:
    10.1143/jjap.49.108001
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    N. Shiraishi;Yushi Kato;H. Arai;Nobuo Tsuchimine;Susumu Kobayashi;M. Mitsuhashi;M. Soga;S. Kaneko;M. Yoshimoto
  • 通讯作者:
    M. Yoshimoto
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  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
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