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液体-プラズマシステムを用いた高秩序コアシェル型ナノ粒子の創製

液体-プラズマシステムを用いた高秩序コアシェル型ナノ粒子の創製
使用液体等离子体系统创建高度有序的核壳纳米粒子
批准号:
09F09236
负责人:
畠山 力三
金额:
$1.34万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2011

项目摘要

项目成果

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前年度までの成果に基づき,本年度は,気相-液相界面プラズマによる金ナノ粒子合成の際に重要な役割を果たす還元剤の種類を特定しナノ粒子合成メカニズムを解明するとともに,バイオ応用が期待される金ナノ粒子がコアでDNAがシェルである新規コアシェル型ナノ粒子を制御して合成し,さらにドラッグデリバリーへの応用を目指して,カーボンナノチューブ(CNT)への挿入実験を行った.1.気相-液相界面プラズマにより合成される金ナノ粒子の密度,直径の時間発展を詳細に調べることによって,金ナノ粒子合成にはプラズマによって形成される寿命の異なる2つのカテゴリーの還元剤が重要な役割を果たしていることを明らかにした.一つは,短寿命の還元剤であり,プラズマから照射される電子,紫外線,および高エネルギーイオンの液相への照射によって生成される二次電子,水素ラジカル,水酸化ラジカルである.もう一つが,長寿命の還元剤であり,プラズマ照射により液相で生成される過酸化水素(H_2O_2)である.これらの還元剤の生成をプラズマパラメータを変化させて制御することにより,コアシェル型ナノ粒子のサイズ,シェルとしてのDNAの被覆率,ナノ粒子の凝集度などを制御できることを明らかにした.2.高度に秩序化されたナノ粒子周期構造の実現およびドラッグデリバリーへの応用を目指し,CNTが塗布された基板へのバイアス(V_<DC>)印加によるプラズマイオン照射法を用いることによって,金コアーDNAシェルナノ粒子をCNT内部へ挿入する実験を行った結果,V_<DC>を正方向に増加させることによって,CNT内部およびCNTの束の隙間にナノ粒子が存在することが明らかとなり,本手法により金コアーDNAシェルナノ粒子を内包したCNT形成が可能であることを実証した.このようにして形成された金ナノ粒子とCNTの複合物質は,高効率の光電変換素子の創製のみならず,タンパク質高感度センシング等の幅広いバイオ・医療分野への応用が期待できる.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Generation of Controlled Gas-Liquid Interfacial Plasmas for Synthesis of Novel Nano-Bio Conjugates (Invited)
生成受控气液界面等离子体以合成新型纳米生物缀合物(特邀)
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [Meshesha, D., Q.Chen, Q.Chen, R.Hatakeyama, Q.Chen, 金子俊郎, T.Kaneko, T.Kaneko, R.Hatakeyama, T.Kaneko]
通讯作者: T.Kaneko
Gas-Liquid Interfacial Plasmas and Nano-Bio Material Applications
气液界面等离子体与纳米生物材料应用
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [上田顕, 森田靖, R.Hatakeyama]
通讯作者: R.Hatakeyama
Simple Synthesis of Water-Soluble Gold Nanoparticles by Gas-Liquid Interfacial Discharge Plasma
气液界面放电等离子体简单合成水溶性金纳米粒子
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [Hideaki Miyake, Naokazu Kano, Takayuki Kawashima, 関口章, 斎藤雅一, Q. Chen]
通讯作者: Q. Chen
Structural and Reaction Kinetics in Gas-Liquid Interfacial Plasmas
气液界面等离子体中的结构和反应动力学
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: [T. Kubo, et.al., 畠山力三]
通讯作者: 畠山力三
19
    Creation of Advanced Functional Nanodia-Graphene with Built-in NV Center by Controlling Plasma Processes
    • 批准号:
      21K03520
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.66万
    • 财政年份:
      2021
    • 负责人:
      畠山 力三
    • 依托单位:
    気液相複合プラズマプロセスによるナノシリコン・ナノカーボン混成新奇発光場の創成
    • 批准号:
      18654100
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Exploratory Research
    • 资助金额:
      $2.11万
    • 财政年份:
      2006
    • 负责人:
      畠山 力三
    • 依托单位:
    プラズマイオン照射法による二層カーボンナノチューブ内部でのp-n接合形成
    • 批准号:
      06F06336
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.54万
    • 财政年份:
      2006
    • 负责人:
      畠山 力三
    • 依托单位:
    溶液系マイクロプラズマ反応場利用高次構造超分子創製の基盤確立
    • 批准号:
      18030002
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额:
      $3.46万
    • 财政年份:
      2006
    • 负责人:
      畠山 力三
    • 依托单位:
    海外基金