ペア高分子イオンプラズマの生成とその物性
ペア高分子イオンプラズマの生成とその物性
批准号:
10878068
负责人:
畠山 力三
金额:
$1.28万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
1998
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1998 至 1999
中文摘要
(1)現有の最大4KG発生可能な磁場コイルと真空容器(内直径16cm,長さ400cm)を整備し,その一端に内直径9cm,外直径10cmのドーナツ状の電子ビーム源を設置した.電子源から60cmの位置に内直径4cm,外直径13cmのドーナツ状金属リミタを設置しており,電子ビームはここで終端する.電子ビーム中に昇華させたC_<60>を導入すると,高エネルギー電子衝突によりC_<60>^+が,低エネルギー電子付着によりC_<60>^-が生成されて,リミタより下流域に拡散する.このようにして電子の存在しない純ペア分子イオン(C_<60>^+,C_<60>^-)プラズマの生成に成功した.(2)ラングミュアプローブによる半径方向プラズマ分布の測定によると,正負イオン共にガウス型分布をしている.空間電位は基準電位に対して正電位になっており,衝突・付着する電子の運動エネルギーの差よりC_<60>^-に比べてC_<60>^+の運動エネルギーが大きいことに起因すると考えられる.(3)リミタ印加電位を正弦波的に変化させて静電波動を励起しその分散関係を調べた結果,プラズマ振動周波数ω_p近傍には波動が伝搬しないカットオフ領域(ω_p<ω<√<2>ω_p)が存在することを見出した.また,ω<ω_pでは電子ーイオンの通常プラズマ中のイオン音波に相当するモードが,ω>√<2>ω_pでは電子プラズマ波に相当するモードが存在することを実験的に確認し,純ペアイオンプラズマの特性を明らかにした.(4)下流に設置した基板電極に堆積した薄膜をレーザー脱離飛行時間型質量分析器により解析したところ,C_<121>に相当する質量数をもつ安定な物質の存在を突きとめることができた.これはC_<60>が2つ結合したダイマーであると考えられる.
英文摘要
(1)現有の最大4KG発生可能な磁場コイルと真空容器(内直径16cm,長さ400cm)を整備し,その一端に内直径9cm,外直径10cmのドーナツ状の電子ビーム源を設置した.電子源から60cmの位置に内直径4cm,外直径13cmのドーナツ状金属リミタを設置しており,電子ビームはここで終端する.電子ビーム中に昇華させたC_<60>を導入すると,高エネルギー電子衝突によりC_<60>^+が,低エネルギー電子付着によりC_<60>^-が生成されて,リミタより下流域に拡散する.このようにして電子の存在しない純ペア分子イオン(C_<60>^+,C_<60>^-)プラズマの生成に成功した.(2)ラングミュアプローブによる半径方向プラズマ分布の測定によると,正負イオン共にガウス型分布をしている.空間電位は基準電位に対して正電位になっており,衝突・付着する電子の運動エネルギーの差よりC_<60>^-に比べてC_<60>^+の運動エネルギーが大きいことに起因すると考えられる.(3)リミタ印加電位を正弦波的に変化させて静電波動を励起しその分散関係を調べた結果,プラズマ振動周波数ω_p近傍には波動が伝搬しないカットオフ領域(ω_p<ω<√<2>ω_p)が存在することを見出した.また,ω<ω_pでは電子ーイオンの通常プラズマ中のイオン音波に相当するモードが,ω>√<2>ω_pでは電子プラズマ波に相当するモードが存在することを実験的に確認し,純ペアイオンプラズマの特性を明らかにした.(4)下流に設置した基板電極に堆積した薄膜をレーザー脱離飛行時間型質量分析器により解析したところ,C_<121>に相当する質量数をもつ安定な物質の存在を突きとめることができた.これはC_<60>が2つ結合したダイマーであると考えられる.
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M.Yoshinuma: "Control of radial potential profile and related low-frequency fluctuations in an ECR-produced plasma"Physics Letters A. 255. 301-306 (1999)
M.Yoshinuma:“ECR 产生的等离子体中径向电势分布和相关低频波动的控制”《物理快报》A. 255. 301-306 (1999)
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
畠山 力三: "フラーレンプラズマの性質と応用"Journal of Plasma and Fusion Research. 75・8. 927-933 (1999)
畠山力三:“富勒烯等离子体的特性和应用”等离子体与融合研究杂志75・8(1999)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
R.Hatakeyama: "Plasma Potential Formation and Particle Acceleration Due to ECRH in Diverging Magnetic-Field Lines"Transactions of Fusion Technology. 35・1T. 325-329 (1999)
R.Hatakeyama:“发散磁场线中 ECRH 导致的等离子体势形成和粒子加速”《聚变技术汇刊》35・1T(1999 年)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
N.Y.Sato: "Structure Control of Arc-Discharge Plasma for Producing Fullerene-Based Novel Materials"Proceedings of the 17th Symposium on Plasma Processing. 471-474 (2000)
N.Y.Sato:“用于生产富勒烯基新型材料的电弧放电等离子体的结构控制”第 17 届等离子体加工研讨会论文集。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
T. Kaneko: "Potential Structure Modified by Electron Cyclotron Resonance in a Plasma Flow along Magnetic Field Lines with Mirror Configuration" Phys. Rev. Lett.80・12. 2602-2605 (1998)
T. Kaneko:“沿具有镜子配置的磁场线的等离子体流中的电子回旋共振修改的电势结构”Phys Rev. Lett.80・12(1998)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
共 12 条
Creation of Advanced Functional Nanodia-Graphene with Built-in NV Center by Controlling Plasma Processes
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批准号:21K03520
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.66万
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财政年份:2021
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
液体-プラズマシステムを用いた高秩序コアシェル型ナノ粒子の創製
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批准号:09F09236
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2009
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
気液相複合プラズマプロセスによるナノシリコン・ナノカーボン混成新奇発光場の創成
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批准号:18654100
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2006
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
プラズマイオン照射法による二層カーボンナノチューブ内部でのp-n接合形成
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批准号:06F06336
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.54万
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财政年份:2006
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
溶液系マイクロプラズマ反応場利用高次構造超分子創製の基盤確立
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批准号:18030002
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.46万
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财政年份:2006
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
溶液中反応性マイクロプラズマ利用の新機能性超分子システム構築法の開発
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批准号:16040202
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.78万
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财政年份:2004
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
高気圧非平衡反応性プラズマ制御による新規の球穀構造ナノシリコン物質探索
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批准号:15654079
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.3万
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财政年份:2003
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
ペアナノ分子イオンプラズマ支援のC_<60>ダイマー形成新機構
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批准号:13480122
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$7.1万
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财政年份:2001
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
非平衡反応性プラズマ制御によるC_<60>因子の高次構造クラスター形成
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批准号:12878072
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2000
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
高周波電磁界によるプラズマ形態の変化
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批准号:61580001
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1986
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
タンデム電位およびサーマルバリアの基礎研究
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批准号:60055005
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项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
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资助金额:$3.71万
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财政年份:1985
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
周期構造プラズマ中のイオンサイクロトロン波不安定
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批准号:59780001
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1984
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
タンデム電位およびサーマルバリアの基礎研究
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批准号:59055006
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项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
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资助金额:$4.42万
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财政年份:1984
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
電気二重層による静電イオンサイクロトロン波不安定の実験
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批准号:57780003
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1982
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
多段ミラー磁場中プラズマの不安定性
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批准号:56790002
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.56万
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财政年份:1981
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
電流駆動ドリフト波乱流と異常輸送
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批准号:X00210----479002
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1979
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负责人:畠山 力三
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依托单位:
海外基金