课题基金 / 基金详情

高周波電磁界によるプラズマ形態の変化

高周波電磁界によるプラズマ形態の変化
高频电磁场导致等离子体形态的变化
批准号:
61580001
负责人:
畠山 力三
金额:
$1.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1986
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1986 至 --

项目摘要

项目成果

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高周波電磁界とプラズマの相互作用によるプラズマ形態変化を、アンテナ近傍プラズマの非線形応答とプラズマ輸送の関連性の解明を目標として、イオンサイクロトロン周波数帯の波動電磁界を用いて実験的に調べた。1.一様直線磁場中のQマシーンプラズマに軸対称マルチターンアンテナにより、イオンサイクロトロン周波数(【ω_(ci)】)帯の大振幅電磁界変動(周波数W)を印加すると、ω/【ω_(ci)】が1近傍で波動がアンテナからプラズマ内部へ浸透・伝搬し、プラズマ中心に波動が集中しそこでは定在波的になっている。2.このとき、アンテナファラディシールドの直流電位(【V_(AF)】)を浮遊電位に保つとそれは印加高周波電磁界を増大するにつれますます負電位になり、アンテナ近傍プラズマの密度が大きく減少しプラズマ損失を併う形態変化が観測された。これは、アンテナファラデイシールドが担う壁・プラズマ非線形相互作用により、アンテナ近傍の井戸型静電電位分布が平担化されたことに起因すると考えられる。また、2つの現象には周波数(ω/【ω_(ci)】)依存性がない。3.ファラデイシールドを接地(【V_(AF)】=OV=真空容器の電位)したときには、上記現象とは反対に0.9【<!〜】ω/【ω_(ci)】【<!〜】1.2の範囲内でのみアンテナ直下のプラズマは、中心密度が著しく上昇しているピーク分布へと形態変化し、これがアンテナから磁力線方向に遠ざかるにつれ緩和していくことが観測された。この密度上昇を併う形態変化とともに、磁力線に垂直方向のイオンエネルギー分布関数は高エネルギー成分を有していることと、アンテナ近傍の静電電位分布がさらに深い井戸型に変化していることなどが、測定の結果判った。これらの事実から、イオン加熱に併う半径方向のイオン輸送による静電電位分布の変化と大振幅プラズマ波動の非線形力の相乗効果によるプラズマ形態変化が発生したものと予想し、さらに詳細な実験を行うべく計画をたてている。
期刊论文(2)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
畠山力三: プラズマ・核融合学会第4回年会予稿集. 122 (1987)
Rikizo Hatakeyama:日本等离子体与聚变科学学会第四届年会论文集 122 (1987)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
畠山力三: 日本物理学会1986年秋の分科会講演予稿集. 4. 161 (1986)
Rikizo Hatakeyama:日本物理学会 1986 年秋季小组委员会会议记录,4. 161 (1986)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
Creation of Advanced Functional Nanodia-Graphene with Built-in NV Center by Controlling Plasma Processes
  • 批准号:
    21K03520
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $2.66万
  • 财政年份:
    2021
  • 负责人:
    畠山 力三
  • 依托单位:
液体-プラズマシステムを用いた高秩序コアシェル型ナノ粒子の創製
  • 批准号:
    09F09236
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $1.34万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    畠山 力三
  • 依托单位:
気液相複合プラズマプロセスによるナノシリコン・ナノカーボン混成新奇発光場の創成
  • 批准号:
    18654100
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.11万
  • 财政年份:
    2006
  • 负责人:
    畠山 力三
  • 依托单位:
プラズマイオン照射法による二層カーボンナノチューブ内部でのp-n接合形成
  • 批准号:
    06F06336
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $1.54万
  • 财政年份:
    2006
  • 负责人:
    畠山 力三
  • 依托单位:
海外基金