课题基金 / 基金详情

溶液系マイクロプラズマ反応場利用高次構造超分子創製の基盤確立

溶液系マイクロプラズマ反応場利用高次構造超分子創製の基盤確立
建立利用基于溶液的微等离子体反应场创建高阶结构超分子的基础
批准号:
18030002
负责人:
畠山 力三
金额:
$3.46万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2007

项目摘要

项目成果

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新機能性発現が期待される生体高分子及びコロイド内包カーボンナノチューブの創製を目的とし,従来の気相中のプラズマ理工学的手法を3種類の溶液系マイクロプラズマ(溶液中アーク放電マイクロプラズマ,溶液中電解質マイクロプラズマ,気相-液相界面グロー放電マイクロプラズマ)に適用した実験を行った.1.シリコンナノ粒子(コロイド)の粒径制御を目的とした溶液中放電マイクロプラズマによる実験では,シリコン電極を用いた溶液中アーク放電によって,結晶性を有するシリコンナノ粒子の形成に成功し,電極材質,溶液の種類を変化させることでナノ粒子の粒径を制御できる可能性を示した.2.DNA及びイオン液体内包カーボンナノチューブ創製を目的とした溶液中電解質マイクロプラズマによる実験では,塩基配列を制御したDNA,極性の異なるイオン液体を電場印加によりカーボンナノチューブへ内包させることで,カーボンナノチューブの電気的特性を制御できることを明らかにし,ナノバイオデバイス応用への可能性を見出した.3.気相-液相界面グロー放電マイクロプラズマの生成・制御実験では,蒸気圧が極低いイオン液体を大気圧及び真空プラズマ系に導入することによって,気相-液相界面放電マイクロプラズマの生成に成功し,イオン液体表面上にシース電場が形成され,それにより加速された気体プラズマ中のイオンが液相との界面領域へ照射されていることを明らかにした.さらに,気相-液相界面での物理的,化学的反応を利用したプラズマプロセスによる新規ナノ物質創製を目指した実験を開始し,ナノ粒子合成に対するプラズマイオン照射の有用性を明らかにしつつある.
期刊论文(95)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
マイクロ・ナノプラズマ技術とその産業応用
微纳等离子体技术及其工业应用
DOI: --
发表时间: 2006
期刊:
影响因子: --
作者: [橘 邦英, 寺嶋和夫 監修]
通讯作者: 寺嶋和夫 監修
Formation and Characteristics of Azafullerene Using Highly Dissociated Nitrogen Plasmas
利用高度解离氮等离子体形成氮杂富勒烯及其特性
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [O. Coutelier, Y. Shiota, S. Yanagisawa, T. Inoue, R. Noyori, K. Yoshizawa, K. Itami, T. Kaneko]
通讯作者: T. Kaneko
Effects of Various Plasma Ions Irradiation on the Ionic Liquid Electrode
不同等离子体离子辐照对离子液体电极的影响
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [尾高友紀, 山口浩靖, 原田明, K. Baba]
通讯作者: K. Baba
Generation and Properties of Plasmas in Contact with Ionic Liquids
与离子液体接触的等离子体的产生和性质
DOI: --
发表时间: 2007
期刊:
影响因子: --
作者: [谷保芳孝, 嘉数誠, T. Kaneko]
通讯作者: T. Kaneko
94
    Creation of Advanced Functional Nanodia-Graphene with Built-in NV Center by Controlling Plasma Processes
    • 批准号:
      21K03520
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.66万
    • 财政年份:
      2021
    • 负责人:
      畠山 力三
    • 依托单位:
    液体-プラズマシステムを用いた高秩序コアシェル型ナノ粒子の創製
    • 批准号:
      09F09236
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.34万
    • 财政年份:
      2009
    • 负责人:
      畠山 力三
    • 依托单位:
    気液相複合プラズマプロセスによるナノシリコン・ナノカーボン混成新奇発光場の創成
    • 批准号:
      18654100
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Exploratory Research
    • 资助金额:
      $2.11万
    • 财政年份:
      2006
    • 负责人:
      畠山 力三
    • 依托单位:
    プラズマイオン照射法による二層カーボンナノチューブ内部でのp-n接合形成
    • 批准号:
      06F06336
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.54万
    • 财政年份:
      2006
    • 负责人:
      畠山 力三
    • 依托单位:
    海外基金