Investigation on the flexible printed circuit fabricated by direct electroless Cu plating on a polyimide film.

研究在聚酰亚胺薄膜上直接化学镀铜制备柔性印刷电路。

基本信息

  • 批准号:
    21760260
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

I have developed the electroless Cu plating directly on polyimide and poly-ethylene naphthalate films by KOH and O2 plasma modifications on the film surfaces, respectively. Using the electroless plating technique, flexible printed circuits(FPC) were formed on the films. I confirmed that these FPC showed smaller signal transmission losses for GHz signals in comparison to a conventional Cu foil laminated FPC. Also, I have fabricated the low loss band pass filter using the electroless Cu plating for 5 GHz wireless band.
我已经开发了化学镀铜直接聚酰亚胺和聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜的KOH和O2等离子体改性的薄膜表面上,分别。使用化学镀技术,在膜上形成柔性印刷电路(FPC)。我证实,与传统的铜箔层压FPC相比,这些FPC显示出更小的GHz信号传输损耗。此外,我已经制作了低损耗带通滤波器使用化学镀铜5 GHz无线频段。

项目成果

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专利数量(0)
Electroless Ni-B plating on SiO2 with 3-aminopropyl-triethoxysilane as a barrier layer against Cu diffusion for through-Si via interconnections in a 3-dimensional multi-chip package
  • DOI:
    10.1016/j.tsf.2008.09.068
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    A. Ikeda;A. Sakamoto;R. Hattori;Y. Kuroki
  • 通讯作者:
    A. Ikeda;A. Sakamoto;R. Hattori;Y. Kuroki
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  • 资助金额:
    $ 3万
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