Investigation on the flexible printed circuit fabricated by direct electroless Cu plating on a polyimide film.
研究在聚酰亚胺薄膜上直接化学镀铜制备柔性印刷电路。
基本信息
- 批准号:21760260
- 负责人:
- 金额:$ 3万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2009
- 资助国家:日本
- 起止时间:2009 至 2011
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
I have developed the electroless Cu plating directly on polyimide and poly-ethylene naphthalate films by KOH and O2 plasma modifications on the film surfaces, respectively. Using the electroless plating technique, flexible printed circuits(FPC) were formed on the films. I confirmed that these FPC showed smaller signal transmission losses for GHz signals in comparison to a conventional Cu foil laminated FPC. Also, I have fabricated the low loss band pass filter using the electroless Cu plating for 5 GHz wireless band.
我已经开发了化学镀铜直接聚酰亚胺和聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜的KOH和O2等离子体改性的薄膜表面上,分别。使用化学镀技术,在膜上形成柔性印刷电路(FPC)。我证实,与传统的铜箔层压FPC相比,这些FPC显示出更小的GHz信号传输损耗。此外,我已经制作了低损耗带通滤波器使用化学镀铜5 GHz无线频段。
项目成果
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专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Electroless Ni-B plating on SiO2 with 3-aminopropyl-triethoxysilane as a barrier layer against Cu diffusion for through-Si via interconnections in a 3-dimensional multi-chip package
- DOI:10.1016/j.tsf.2008.09.068
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:2.1
- 作者:A. Ikeda;A. Sakamoto;R. Hattori;Y. Kuroki
- 通讯作者:A. Ikeda;A. Sakamoto;R. Hattori;Y. Kuroki
Low-Temperature Bonding of LSI Chips to Polymer Substrate using Au Cone Bump for Flexible Electronics
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- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T.Shuto;N.Watanabe;A.Ikeda;Tanemasa Asano
- 通讯作者:Tanemasa Asano
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- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A Ikeda;K.Kajiwara;N.Watanabe;T.Asano
- 通讯作者:T.Asano
Low-Temperature Bonding of LSI Chips to Polymer Substrate using Au Cone Bump for Fjexible Electronics
使用金锥凸块将 LSI 芯片低温键合到聚合物基板上,用于柔性电子产品
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takanori Shuto;Naoya Watanabe;Akihiro Ikeda;Takao Higashimachi;Tanemasa Asano
- 通讯作者:Tanemasa Asano
Compliant Bump Technology for Back-Side IIIuminated CMOS Image Sensor
适用于背面 III 照明 CMOS 图像传感器的顺应凸块技术
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T.Asano;N.Watanabe;A.Ikeda;et al.
- 通讯作者:et al.
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