Study of Quasi-ballistic Electron Transport in Silicon NanodotArray

硅纳米点阵列准弹道电子输运研究

基本信息

  • 批准号:
    22560296
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2010
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2010 至 2012
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

A model to describe the underlying physics of high-energy ballistic electron emission from a porous silicon diode consisting of nanometer-size Si nanodot (SiND) is presented. The model is based on an atomistic tight-binding method combined with semiclassical Monte Carlo simulation. It well reproduces essential features of experimental findings. The model is extended to be applicable to metal-semiconductor diodes consisting of SiND films. Strain effects on avalanche multiplication in a one-dimensional SiND array have been theoretically studied. Larger carrier multiplication factor is observed under compressive strain condition. Impacts of atomic disorder on avalanche multiplication have been theoretically studied. The disorder lifts the degeneracy of the energy levels and reduces the impact-ionization threshold. This leads to a larger carrier multiplication factor in the disordered SiND array compared to an ideal SiND array without disorder or strain.
提出了一个描述由纳米硅纳米点(SIND)组成的多孔硅二极管高能弹道电子发射的物理模型。该模型基于原子紧束缚方法和半经典蒙特卡罗模拟相结合。它很好地再现了实验结果的基本特征。将该模型推广到由SiD薄膜组成的金属半导体二极管。从理论上研究了一维SIND阵列中应变效应对雪崩倍增的影响。在压缩应变条件下,观察到较大的载流子倍增因子。从理论上研究了原子无序对雪崩倍增的影响。无序提高了能级的简并度,降低了碰撞电离阈值。这导致与没有无序或应变的理想SIND阵列相比,无序SIND阵列中的载波倍增因数更大。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Liquid-phase deposition of thin Si and Ge films based on ballistic electro-reduction
基于弹道电还原的 Si 和 Ge 薄膜的液相沉积
  • DOI:
    10.1149/05009.0691ecst
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Ohta;R. Mentek;B. Gelloz;N. Mori;and N. Koshida
  • 通讯作者:
    and N. Koshida
Theory of quasiballistic transport through nanocrystalline silicon dots
  • DOI:
    10.1063/1.3553501
  • 发表时间:
    2011-02
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4
  • 作者:
    N. Mori;H. Minari;S. Uno;H. Mizuta;N. Koshida
  • 通讯作者:
    N. Mori;H. Minari;S. Uno;H. Mizuta;N. Koshida
Strain effects on avalanche multiplication in a silicon nanodot array
硅纳米点阵列中雪崩倍增的应变效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    N. Mori;H. Minari;S. Uno;H. Mizuta;and N. Koshida
  • 通讯作者:
    and N. Koshida
Disorder-Induced Enhancement of Impact Ionization Rate in Silicon Nanodots
无序诱导的硅纳米点碰撞电离率的增强
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Ken Kanazawa;Taku Nishimura;Shoji Yoshida;Hidemi Shigekawa and Shinji Kuroda;Nobuya Mori;Nobuya Mori
  • 通讯作者:
    Nobuya Mori
Ballistic electron emission from nanostructured Si dionde and its applications
纳米结构硅二极管的弹道电子发射及其应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    N. Koshida;N. Ikegami;A. Kojima;R. Mentek;B. Gelloz;and N. Mori
  • 通讯作者:
    and N. Mori
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    $ 2.83万
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