Anionensubstitution beim reaktiven Sputtern von Zr- und Zn-Oxidnitriden

点击翻译按钮获取中文摘要

Ziel der Untersuchungen ist die gezielte Substitution von Sauerstoffanionen durch Stickstoffionen bei niedrigen Substrattemperaturen in Zirkon- und Zinkoxidnitriden durch reaktives DC-Magnetron-Sputtern. Dabei soll ein detailliertes Verständnis der Korrelation von Depositionsparametern wie z. B. den Partialdrücken der Prozeßgase und der resultierenden Schichtstöchiometrie erarbeitet und mit thermodynamischen Modellen verglichen werden. Für die so reproduzierbar herstellbaren Oxidnitride sollen strukturelle, optische, elektronische und mechanische Eigenschaften als Funktion der Stöchiometrie gemessen und mit Dichtefunktionalrechnungen verglichen werden. Damit soll ein mikroskopisches Verständnis der Struktur-Eigenschaftsbeziehung der Oxidnitridschichten etabliert werden, das es erlauben sollte, das Potential dieser Schichten für optische und elektronische Anwendungen gezielt zu nutzen.