Anionensubstitution beim reaktiven Sputtern von Zr- und Zn-Oxidnitriden

Zr 和 Zn 氮氧化物反应溅射中的阴离子取代

• 批准号: 5400330
• 负责人: Professor Dr. Matthias Wuttig
• 金额: --
• 依托单位: I. Physikalisches Institut A - Physik neuer Materialien
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2003
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2002-12-31 至 2007-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5400330?language=en
• 关键词: Anionensubstitution; beim; reaktiven; Sputtern; von

Ziel der Untersuchungen ist die gezielte Substitution von Sauerstoffanionen durch Stickstoffionen bei niedrigen Substrattemperaturen in Zirkon- und Zinkoxidnitriden durch reaktives DC-Magnetron-Sputtern. Dabei soll ein detailliertes Verständnis der Korrelation von Depositionsparametern wie z. B. den Partialdrücken der Prozeßgase und der resultierenden Schichtstöchiometrie erarbeitet und mit thermodynamischen Modellen verglichen werden. Für die so reproduzierbar herstellbaren Oxidnitride sollen strukturelle, optische, elektronische und mechanische Eigenschaften als Funktion der Stöchiometrie gemessen und mit Dichtefunktionalrechnungen verglichen werden. Damit soll ein mikroskopisches Verständnis der Struktur-Eigenschaftsbeziehung der Oxidnitridschichten etabliert werden, das es erlauben sollte, das Potential dieser Schichten für optische und elektronische Anwendungen gezielt zu nutzen.

实验结果表明，通过直流磁控溅射，在锆和锌的氧化物氮化中，通过在较低的衬底温度下的粘结剂来取代不锈钢是一种很好的方法。Dabei soll ein detailliertes Verständnis der Correlation von Depositions parametern wie z. B。在部分绘制过程中，绘制出了结果，并使用了韦尔登。因此，可再现的氧化物解决了结构、光学、电子和机械特性，具有Stöchiometrie gemessen和韦尔登特性。Damit soll ein mikroskopisches Verständnis der Struktur-Eigenschaftsbeziehung der Oxidnitridschichten etabliert韦尔登，das es erlauben sollte，das Potential dieser Schichten für optische und elektronische Anwendungen gezelt zu nutzen.