Untersuchungen zur Deep-UV-Shearing-Interferometrie für 193nm Excimer-Laserstrahlung mit geringer zeitlicher und räumlicher Kohärenz

De Optische平版印刷在Den Bereich-Tiefer UV-Wellenlängen(Deep-UV：DUV)vorsteroüen，所以在Diesem Bereich Zunehmend gebraucht中的Optische Messverfahren是如此的达斯。这是一种高精度的激光干涉测量方法，它的主要特点是解决了材料问题。在西西巴伦，许多人都在为自己的生活做测试。这是一个很难解决的问题，因为它是一种新型的半导体激光器，波长193 nm。在这里，新的变化是剪切-干涉的e-konzepts erforscht和demstriert是登，欢迎您从她的一个未发现的lich gegenüber机制，并与它的西部Verwendung Diffraktiver Strahlteer Strahltehhöchste对称式加兰蒂特。剪裁-干涉子宫内壁的剪裁。在这里，我们还可以从两个不同的系统中得到更多的信息，这些信息来自于Ausleuchtung zumindest für diskrete Sear-Werte zu garantieren。

Die optische Lithographie ist inzwischen in den Bereich "tiefer" UV-Wellenlängen (Deep-UV:DUV) vorgestoßen, so dass auch optische Messverfahren in diesem Bereich zunehmend gebraucht werden. Die Übertragung gewöhnlicher interferometrischer Verfahren auf DUV-Wellenlängen stellt aber insbesondere wegen der mangelhaften zeitlichen und räumlichen Kohärenzeigenschaften von Excimer-Lasern und der mit diesen Wellenlängen verbundenen Materialprobleme eine beträchtliche Herausforderung dar. Andererseits sind aber Tests bei Wellenlängen im Sichtbaren oft wenig aussagekräftig. Ein gravierendes Messproblem stellen beispielsweise die Strukturänderungen von Quarzglas bei Bestrahlung mit Excimer-LaserStrahlung bei 193 nm im Makrobereich dar. Hier soll eine neue Variante eines Shearing-Interferometrie-Konzepts erforscht und demonstriert werden, welches einerseits vom Strahlengang her unempfindlich gegenüber mechanischen Störungen ist und andererseits wegen der Verwendung diffraktiver Strahlteiler höchste Symmetrie garantiert. Shearing-Interferometrie verlangt natürlicherweise zumindest räumliche Kohärenz. Hier sind also besondere Maßnahmen im Beleuchtungssystem nötig, um die laterale Kohärenz bei möglichst homogener Ausleuchtung zumindest für diskrete Shear-Werte zu garantieren.