Plasmaprozesssystem zur Abscheidung und zum Trockenätzen von dünnen Schichten

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Unsere Forschung im Bereich der Nanophotonik und der Plasmonik beruht auf der Nanostrukturierung von dünnen Schichten und der Herstellung von einzelnen Strukturen mit Abmessungen im Nanometerbereich. Dazu ist es in einem ersten Schritt unbedingt erforderlich, dünne Schichten aus Dielektrika und Halbleitern mit hoher Qualität abscheiden zu können. Nach erfolgter Strukturierung eines auf die Schicht aufgebrachten Polymerfilms mittels Elektronenstrahllithographie muss diese Strukturierung dann durch einen trockenen Ätzprozess in die Schicht selbst übertragen werden. Das in diesem Antrag beschriebene kombinierte Plasmasystem ermöglicht dies mit höchster Qualität, und wird in einem von der Gruppe geleiteten 170 Quadratmeter umfassenden Reinraum in dem neuen Nanoinstitut München der LMU untergebracht werden. Die Notwendigkeit der Anschaffung ergibt sich zudem insbesondere durch den Umzug meiner Forschergruppe vom Imperial College London an die LMU, was einen Neuaufbau unserer Infrastruktur zur Nanofabrikation mit sich bringt. Die hier beantragte Gerätekombination stellt des Weiteren einen Teil der mir zugesagten Erstaustattung meiner Labore in dem neuen Institut dar. Unsere gesamte Forschung auf dem Gebiet der Nanophotonik mit strukturierten Dielektrika ist ohne den Aufbau dieses Plasmaprozesssystems nicht möglich.