Plasmaprozesssystem zur Abscheidung und zum Trockenätzen von dünnen Schichten

用于薄层沉积和干法蚀刻的等离子处理系统

• 批准号: 414137412
• 金额: --
• 依托单位: Ludwig-Maximilians-Universität München (LMU)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Major Research Instrumentation
• 财政年份: 2018
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2017-12-31 至 无数据
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/414137412?language=en
• 关键词: Plasmaprozesssystem; zur; Abscheidung; und; zum

Unsere Forschung im Bereich der Nanophotonik und der Plasmonik beruht auf der Nanostrukturierung von dünnen Schichten und der Herstellung von einzelnen Strukturen mit Abmessungen im Nanometerbereich. Dazu ist es in einem ersten Schritt unbedingt erforderlich, dünne Schichten aus Dielektrika und Halbleitern mit hoher Qualität abscheiden zu können. Nach erfolgter Strukturierung eines auf die Schicht aufgebrachten Polymerfilms mittels Elektronenstrahllithographie muss diese Strukturierung dann durch einen trockenen Ätzprozess in die Schicht selbst übertragen werden. Das in diesem Antrag beschriebene kombinierte Plasmasystem ermöglicht dies mit höchster Qualität, und wird in einem von der Gruppe geleiteten 170 Quadratmeter umfassenden Reinraum in dem neuen Nanoinstitut München der LMU untergebracht werden. Die Notwendigkeit der Anschaffung ergibt sich zudem insbesondere durch den Umzug meiner Forschergruppe vom Imperial College London an die LMU, was einen Neuaufbau unserer Infrastruktur zur Nanofabrikation mit sich bringt. Die hier beantragte Gerätekombination stellt des Weiteren einen Teil der mir zugesagten Erstaustattung meiner Labore in dem neuen Institut dar. Unsere gesamte Forschung auf dem Gebiet der Nanophotonik mit strukturierten Dielektrika ist ohne den Aufbau dieses Plasmaprozesssystems nicht möglich.

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