Study on nano machining technology using fullerenol molecules

利用富勒烯醇分子进行纳米加工技术的研究

• 批准号: 23560129
• 负责人: SUZUKI Keisuke
• 金额: $ 3.41万
• 依托单位: Kyushu Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2013
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23560129/
• 关键词: 超精密加工; 水酸化フラーレン; 混合微粒子; サファイアCMP; 国際情報交換; 精密研磨; ナノ材料; ナノチューブ・フラーレン; 省エネルギー; マイクロ・ナノデバイス

Novel functional fine particles are formed by mixing fullerenol solution and colloidal silica slurry for applying sapphire CMP. Material removal rate (MRR) of the sapphire CMP become higher than conventional colloidal silica slurry by using novel functional fine particles. In this cases, the MRR increases as the concentration of the C60(OH)n in the mixed slurry become higher. The variation of MRR against concentration of the C60(OH)n is effected by surface morphology of the sapphire substrate in this case.The fullerenol molecules such as C60(OH)n n=ca.10 are adsorbed on the colloidal silica particles for the fine particle by DLS and Raman results. From the peak shift of the DLS, we estimate that 2 layers of C60(OH)n molecules is coated around the colloidal silica particles. C60(OH)n molecules might be weakly bonded with the colloidal silica particle because the peak assigned as C60(OH)n molecules shift by the adsorption process on the Raman spectra.

通过混合富勒烯醇溶液和胶态二氧化硅浆料形成用于蓝宝石CMP的新型功能微粒。通过使用新型的功能性微粒，蓝宝石CMP的材料去除率（MRR）变得比传统的胶体二氧化硅浆料更高。在这种情况下，混合浆料中C60（OH）n的浓度越高，MRR越高。DLS和拉曼结果表明，C60（OH）n n= ca. 10的富勒烯分子吸附在胶体二氧化硅颗粒上形成了较细的颗粒，C60（OH）n的MRR随C60（OH）n浓度的变化受衬底表面形貌的影响。从DLS的峰位移，我们估计，2层的C60（OH）n分子包覆在胶体二氧化硅颗粒。C60（OH）n分子可能与胶体二氧化硅颗粒弱键合，因为在拉曼光谱上指定为C60（OH）n分子的峰被吸附过程移动。

项目成果

Study on Sapphire CMP Slurry using Water-soluble Fullerenol as Fine Particles

以水溶性富勒烯醇为细颗粒的蓝宝石CMP浆料的研究

• 发表时间: 2011
• 期刊: International Conference on Planarization/CMP Technology (2011 ICPT)
• 作者: 山口智実,古城直道,島田尚一,松森昇,尾倉秀一,廣岡大祐;Keisuke Suzuki et.al.;山口智実，古城直道，島田尚一，松森 昇，尾倉秀一，廣岡大祐;Keisuke Suzuki et.al.;田中慎二,古城直道,廣岡大祐,山口智実,松森昇,尾倉秀一;Keisuke Suzuki et. al.
• 通讯作者: Keisuke Suzuki et. al.

サファイアCMPにおける水酸化フラーレン混合スラリーに関する研究コロイタルシリカスラリーをヘースとした研磨特性の検証

氢氧化富勒烯混合浆料在蓝宝石CMP中的研究 以硅胶浆料为基底的抛光性能验证

• 发表时间: 2012
• 作者: A.Yui;A.Honda;S.Okuyama;T.Kitajima;G.Okahata;H.Saito;A.H.Slocum;齊藤貴志,鈴木恵友他
• 通讯作者: 齊藤貴志,鈴木恵友他

研磨剤

磨料

• 发表时间: 2011

CMP用マイクロハターンハットの開発-ホリシンクへの適用-

开发CMP用微型帽转帽-应用于Holisink-

• 发表时间: 2012
• 作者: 荒木大秀;古城直道;山口智実;松森昇;尾倉秀一;磯野慎太郎,鈴木恵友他
• 通讯作者: 磯野慎太郎,鈴木恵友他

サファイアCMPにおける水酸化フラーレン混合スラリーに関する研究̶コロイダルシリカスラ リーをベースとした研磨特性の検証̶

蓝宝石CMP中氢氧化富勒烯混合浆料的研究—基于胶态二氧化硅浆料的抛光性能验证—

• 发表时间: 2011
• 作者: 齊藤貴志 鈴木恵友;パナートカチ ョーンルンル アン,烏谷恵里香,木村景一,
• 通讯作者: パナートカチ ョーンルンル アン,烏谷恵里香,木村景一,