Konstruktive Darstellung von dreidimensionalen periodischen Nanostrukturen durch Ionenstrahl-gestützte Abscheidung

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Das Wachstum von dreidimensionalen Nanostrukturen kann mit einer neuen Methode, der Deposition unter streifendem Teilcheneinfall bei gleichzeitiger Substratrotation realisiert werden. Das Verfahren eignet sich zur Darstellung von Strukturen vielfältiger Geometrien (z.B. Säulen, Spiralen oder Sparren) mit lateralen Dimensionen 30nm, deren vertikale Abmessungen durch die Schichtdicke bestimmt sind. Es wird erwartet, dass sich diese Strukturen durch neue physikalische Eigenschaften (Elastizität, Brechzahl) auszeichnen. Innerhalb dieses Teilprojektes sollen die Parameterfelder sowie die Mechanismen des Nanostrukturenwachstums erfaßt werden. Dabei soll erstmals die Ionenstrahl-Sputterdeposition zur Anwendung kommen. Durch die Variation der Prozeßparameter sollen Geometrie, Phasenzusammensetzung und Kristallinität der Nanostrukturen gezielt beeinflusst werden. Weiterhin sollen regelmäßige Anordnungen von Nanostrukturen auf einem vorstrukturierten Substrat hergestellt werden. Es sollen die optischen und mechanischen Eigenschaften insbesondere der chiralen Nanostrukturen untersucht werden.