Elucidation of formation mechanism of oxidation-induced fault in silicon carbide semiconductors

碳化硅半导体氧化诱发缺陷形成机制的阐明

基本信息

  • 批准号:
    24560365
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.49万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2012
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2012-04-01 至 2015-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Si及びSiC-MOSFETのI-V特性に対するガンマ線照射の影響
伽马射线照射对 Si 和 SiC-MOSFET I-V 特性的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    横関貴史;田中量也;藤田奈津子;牧野高紘;小野田忍;大島武;田中雄季;神取幹郎;吉江徹;土方泰斗
  • 通讯作者:
    土方泰斗
Photoluminescence Study of Oxidation-Induced Stacking Faults in 4H-SiC Epilayers
4H-SiC 外延层中氧化引起的堆垛层错的光致发光研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Miyano;S. Yagi;Y. Hijikata;H. Yaguchi
  • 通讯作者:
    H. Yaguchi
Surface orientation dependence of SiC oxidation process studied by in-situ spectroscopic ellipsometry
原位光谱椭圆光度法研究 SiC 氧化过程的表面取向依赖性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    D. Goto;S. Yagi;Y. Hijikata;H. Yaguchi
  • 通讯作者:
    H. Yaguchi
Si emission into the oxide layer during oxidation of silicon carbide
碳化硅氧化过程中 Si 发射到氧化物层中
  • DOI:
    10.4028/www.scientific.net/msf.778-780.553
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yasuto Hijikata;Yurie Akasaka;Shuhei Yagi;and Hiroyuki Yaguchi
  • 通讯作者:
    and Hiroyuki Yaguchi
堆積と熱酸化による4H-SiC MOS 構造の作製
通过沉积和热氧化制备4H-SiC MOS结构
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Hijikata;S. Yagi;H. Yaguchi;and S. Yoshida;加藤 寿悠 ,八木 修平 ,土方 泰斗 ,矢口 裕之;大谷 篤志,八木 修平,土方 泰斗,矢口 裕之
  • 通讯作者:
    大谷 篤志,八木 修平,土方 泰斗,矢口 裕之
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    $ 3.49万
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  • 资助金额:
    $ 3.49万
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    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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