Elucidation of formation mechanism of oxidation-induced fault in silicon carbide semiconductors
碳化硅半导体氧化诱发缺陷形成机制的阐明
基本信息
- 批准号:24560365
- 负责人:
- 金额:$ 3.49万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2012
- 资助国家:日本
- 起止时间:2012-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Si及びSiC-MOSFETのI-V特性に対するガンマ線照射の影響
伽马射线照射对 Si 和 SiC-MOSFET I-V 特性的影响
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:横関貴史;田中量也;藤田奈津子;牧野高紘;小野田忍;大島武;田中雄季;神取幹郎;吉江徹;土方泰斗
- 通讯作者:土方泰斗
Photoluminescence Study of Oxidation-Induced Stacking Faults in 4H-SiC Epilayers
4H-SiC 外延层中氧化引起的堆垛层错的光致发光研究
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Miyano;S. Yagi;Y. Hijikata;H. Yaguchi
- 通讯作者:H. Yaguchi
Surface orientation dependence of SiC oxidation process studied by in-situ spectroscopic ellipsometry
原位光谱椭圆光度法研究 SiC 氧化过程的表面取向依赖性
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:D. Goto;S. Yagi;Y. Hijikata;H. Yaguchi
- 通讯作者:H. Yaguchi
Si emission into the oxide layer during oxidation of silicon carbide
碳化硅氧化过程中 Si 发射到氧化物层中
- DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.778-780.553
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yasuto Hijikata;Yurie Akasaka;Shuhei Yagi;and Hiroyuki Yaguchi
- 通讯作者:and Hiroyuki Yaguchi
堆積と熱酸化による4H-SiC MOS 構造の作製
通过沉积和热氧化制备4H-SiC MOS结构
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Hijikata;S. Yagi;H. Yaguchi;and S. Yoshida;加藤 寿悠 ,八木 修平 ,土方 泰斗 ,矢口 裕之;大谷 篤志,八木 修平,土方 泰斗,矢口 裕之
- 通讯作者:大谷 篤志,八木 修平,土方 泰斗,矢口 裕之
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