Development of LPCVD enables intermediate substances to flow into micropores of Y zeolite to deposit thin film for suppressing catalytic activity

LPCVD的发展使中间物质流入Y沸石的微孔中沉积薄膜以抑制催化活性

• 批准号: 24560897
• 负责人: SATO Tsuneyuki
• 金额: $ 2.33万
• 依托单位: Akita National College of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24560897/
• 关键词: ゼオライト; ＣＶＤ; 長寿命化; 細孔径制御; 成膜速度; 膜観察; 減圧系; ゼオライト細孔; CVD

项目成果

2P094減圧熱ＣＶＤを用いたＴＥＯＳからのＳｉＯ２薄膜の合成

2P094使用低压热CVD从TEOS合成SiO2薄膜

• 发表时间: 2014
• 作者: 木村雪花;佐藤恒之
• 通讯作者: 佐藤恒之