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Imaging the buried nanostructures beneath the surface using scanning probe microscopy

使用扫描探针显微镜对表面下方埋藏的纳米结构进行成像

基本信息

批准号：
24710109
负责人：
YAMADA Fumihiko
金额：
$ 3万
依托单位：
Toyota Technological Institute
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2012
资助国家：
日本
起止时间：
2012-04-01 至 2014-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

Controlling the electric properties of the nanodevice is accomplished to make the nanostructures using nanocomposites or nanoparticles. Thus, the nanoparticles and composits are arrayed on the substrate and/or buried in the surface. However, the size measurement and mapping of individual nanostructures was not accomplished. In this study, we developed the technique which measures the size, dielectric constant and position of nanostructures buried in the surface. We employed the electrostatic force measurement based on an AFM technique. AFM can measure the surface nanostructures on nm-scale. The electrostatic force depends on the thickness and dielectric constant of the nanostructures. We succeed to measure the thickness, dielectric constant and electric property of individual nanostructures buried in the substrate surface.

控制纳米器件的电性能是使用纳米复合材料或纳米颗粒来制造纳米结构。因此，纳米颗粒和复合物排列在基底上和/或埋在表面中。然而，单个纳米结构的尺寸测量和绘图尚未完成。在这项研究中，我们开发了测量埋在表面的纳米结构的尺寸，介电常数和位置的技术。我们采用基于AFM技术的静电力测量。原子力显微镜可以在纳米尺度上测量表面纳米结构。静电力取决于纳米结构的厚度和介电常数。我们成功地测量了埋在衬底表面的单个纳米结构的厚度、介电常数和电学性质。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Electronic Characterization of Interface between Si Substrate and Cu-Based Metal Paste on an Atomic Scale using KFM

使用 KFM 在原子尺度上对硅基板和铜基金属浆料之间的界面进行电子表征

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
Fumihiko Yamada;Manabu Yoshida;Uichi Itoh;Isao Sumita;Itaru Kamiya and Yoshio Oshita
通讯作者：
Itaru Kamiya and Yoshio Oshita

Electrical property measurement of the interface between the Si solar cell and the metal electrode using AFM

使用 AFM 测量硅太阳能电池与金属电极之间界面的电性能

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
W. Kada;T. Satoh;A. Yokoyama;M. Koka;and T. Kamiya;Fumihiko Yamada and Itaru Kamiya
通讯作者：
Fumihiko Yamada and Itaru Kamiya

nm-scaled workfunction mapping of interface between crystalline Si and metal paste electrode using KFM

使用 KFM 绘制晶体硅和金属浆料电极之间界面的纳米级功函数图

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
Fumihiko Yamada;Manabu Yoshida;Hideo Tokuhisa;Mari Aoki ;Uichi Itoh;Isao Sumita;Shigenobu Sekine;Itaru Kamiya and Yoshio Ohshita
通讯作者：
Itaru Kamiya and Yoshio Ohshita

Workfunction mapping of interface between crystalline Si and metal paste electrode using KFM

使用 KFM 绘制晶体硅和金属糊电极之间界面的功函数图

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
Fumihiko Yamada;Manabu Yoshida;Mari Aoki;Hideo Tokuhisa;Uichi Itoh;Isao Sumita;Shigenobu Sekine;Itaru Kamiya and Yoshio Ohshita
通讯作者：
Itaru Kamiya and Yoshio Ohshita

Thickness mapping of subsurface nanostructures using FM-EFM

使用 FM-EFM 绘制地下纳米结构的厚度图