High speed fabrication of large-area microcrystalline silicon films using VHF plasma with an under-expanded supersonic jet
High speed fabrication of large-area microcrystalline silicon films using VHF plasma with an under-expanded supersonic jet
使用 VHF 等离子体和欠膨胀超音速射流高速制造大面积微晶硅薄膜
批准号：
25390108
负责人：
MUTA Hiroshi
金额：
$3.33万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
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バラン給電型SiH4/H2リモートプラズマにおけるイオン衝撃エネルギー測定と評価
平衡-不平衡变换器馈电 SiH4/H2 远程等离子体中的离子撞击能量测量和评估
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DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[千藤彰大，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞, 兼松雅斗，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞, 三和寛之，西田哲，牟田浩司，野々村修一，栗林志頭眞, 岡田俊，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞, 滝下裕基，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞]
通讯作者：
滝下裕基，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞
太陽電池のテクスチャ構造の形状による電流漏れの変化の評価
评估根据太阳能电池纹理结构形状的漏电流变化
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DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[千藤彰大，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞, 兼松雅斗，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞]
通讯作者：
兼松雅斗，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞
大面積VHFプラズマ中の定在波測定
大面积 VHF 等离子体中的驻波测量
大面积 VHF 等离子体中的驻波测量
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[千藤彰大，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞, 兼松雅斗，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞, 三和寛之，西田哲，牟田浩司，野々村修一，栗林志頭眞, 岡田俊，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞, 滝下裕基，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞, 廣井将平，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞]
通讯作者：
廣井将平，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞
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非平衡等离子体射流CVD中气体流量对Si膜成膜质量影响的思考
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DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[千藤彰大，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞, 兼松雅斗，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞, 三和寛之，西田哲，牟田浩司，野々村修一，栗林志頭眞, 岡田俊，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞, 滝下裕基，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞, 廣井将平，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞, 井関将仁，西田 哲，牟田浩司，栗林志頭眞]
通讯作者：
井関将仁，西田 哲，牟田浩司，栗林志頭眞
高速噴流を利用したプラズマCVDの新規高速製膜手法
使用高速射流的等离子体 CVD 的新型高速薄膜沉积方法
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DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
ながれ（日本流体力学会誌）
影响因子：
--
作者：
[西田哲, 納土亮, 牟田浩司, 栗林志頭眞]
通讯作者：
栗林志頭眞
共 14 条
Investigation of VHF plasmas with narrow gap under high gas pressure for the fabrication of microcrystalline silicon thin films.
-
批准号：20560022
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.16万
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财政年份：2008
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负责人：MUTA Hiroshi
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依托单位：
海外基金