Hydrogen gas sensor based on ultra-thin palladium film grown on fibre-textured aluminium nitride buffer layer

基于纤维织构氮化铝缓冲层上生长的超薄钯膜的氢气传感器

• 批准号: 25870772
• 负责人: HARUMOTO Takashi
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Tokyo Institute of Technology (2015)Tokyo University of Science (2013-2014)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2013-04-01 至 2016-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25870772/
• 关键词: 水素; パラジウム; 窒化アルミニウム; エピタキシャル成長; 極薄膜; 界面物性; 配向性; 格子ひずみ; ひずみ; 菱面体; 薄膜; ナノ材料

项目成果

AlN下地膜を用いた室温動作Pd極薄膜型水素センサー

采用AlN基膜的室温Pd超薄膜氢传感器

• 发表时间: 2014
• 作者: 大西悠介;石黒孝;春本高志;大西悠介，春本高志，石黒孝
• 通讯作者: 大西悠介，春本高志，石黒孝

金属・窒化アルミニウム界面と配向性窒化アルミニウム薄膜

金属-氮化铝界面及取向氮化铝薄膜

• 作者: Takashi Harumoto;Takumi Sannomiya;Shinji Muraishi;Ji Shi;Yoshio Nakamura;and Takashi Ishiguro;春本高志
• 通讯作者: 春本高志

Rhombohedral distortion analysis of ultra-thin Pt(111) films deposited under Ar-N2 atmosphere

Ar-N2 气氛下沉积的超薄 Pt(111) 薄膜的菱面体畸变分析

• DOI: 10.1107/s1600576714014484
• 发表时间: 2014
• 期刊: Journal of Applied Crystallography
• 影响因子: 6.1
• 作者: Takashi Harumoto;Takumi Sannomiya;Shinji Muraishi;Ji Shi and Yoshio Nakamura
• 通讯作者: Ji Shi and Yoshio Nakamura

プリミティブ格子によるfcc（111）高配向薄膜の構造評価法

利用原始晶格的高取向FCC(111)薄膜结构评价方法

• 发表时间: 2013
• 作者: 中村吉男;春本高志;三宮工;村石信二;史蹟;石黒孝
• 通讯作者: 石黒孝

Disc-shaped nanocrystal model for simulating the diffraction peak profile from a one-dimensional superlattice and its application to Pt/AlN superlattice films

模拟一维超晶格衍射峰轮廓的盘形纳米晶模型及其在 Pt/AlN 超晶格薄膜中的应用

• DOI: 10.1107/s1600576716005483
• 发表时间: 2016
• 期刊: Journal of Applied Crystallography
• 影响因子: 6.1
• 作者: Takashi Harumoto;Takumi Sannomiya;Shinji Muraishi;Ji Shi and Yoshio Nakamura
• 通讯作者: Ji Shi and Yoshio Nakamura