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Bestimmung und Optimierung des mechanischen Verhaltens von Schichtstapeln mit porösen low-k-Dielektrika

Bestimmung und Optimierung des mechanischen Verhaltens von Schichtstapeln mit porösen low-k-Dielektrika
多孔低 k 电介质层堆叠机械性能的确定和优化
批准号:
5433749
负责人:
Professor Dr. Thomas Geßner (†)
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2004
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2003-12-31 至 2005-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
从今天起,我们将不再接受这项工程和机械,因为它是一种新的技术和技术。在此基础上,提出了一种新的设计方案,并在此基础上设计了一套新的设计方案,以满足客户的需求。在DER REGEL中,所有的同类材料都采用了相应的算法,从而实现了对材料的形式化管理。他说:“我不是最好的,也不是最好的,我们是最好的老师,我最喜欢的是什么?”这是一种新的材料,也是一种新的方法。这是一种不同的方式,不同的是,它们不同,不同的是,它们不同,它们不同。他说:“这是一件很重要的事情,因为这是一件很重要的事情,因为这是一件很重要的事情,因为这是一件很重要的事情。我是Zweiten Anatz soll versuht den,Ein Thetitisches Modell auf der Grundlage einer einer Speziellen边界元(BE-)Method zur Beschreibung des Machischen Verhalten Poröser材料zu entwickeln and zu teen.在程序的实施过程中,我们将所有的事情都做好了准备,这是一件非常重要的事情,因为它是一件非常重要的事情,因为它是一件非常重要的事情,因为它是一件非常重要的事情。我们知道,这是一个新的参数的识别,并作为一个机制,以此为基础的材料和客户服务。Für das Vorhaben steht and der TU Chemnitz ein hochgenaues Eindruck-Messgerät MIT Ensprechner Auswerte-Software Sowie ein Maariatisches Modelell zur Vorhersage des Machischen Versagens均质器Materialen and dünner Schichten zur Verfügung。在这一点上,我们并不认为这是一件很重要的事情。
英文摘要
Gegenstand des Projektes ist die Untersuchung des mechanischen Verhaltens poröser low-k-Dielektrika mit dem Ziel, diese Materialien eindeutig zu charakterisieren und ihr Verhalten im Anwendungsfall (z. B. Kupfer-Damascene-Technologie) zu prognostizieren. Bisher wird versucht, die Charakterisierung poröser Dielektrika mittels konventioneller Kenngrößen (z. B. Elastizitätsmodul) vorzunehmen, wobei letztere mit etablierten Verfahren (z. B. Nanoindenter oder akustischen Oberflächenwellen - SAW) gemessen werden. In der Regel werden dabei die für homogene Materialien entwickelten AuswerteAlgorithmen formal auf die porösen Materialien übertragen. Dies führt meist dazu, dass man völlig unterschiedliche Werte bekommt, wenn beispielsweise der Elastizitätsmodul einmal mit SAW, im anderen Fall mit dem Nanoindenter bestimmt wird. Bei homogenen Materialien stimmen dagegen die mit verschiedenen Methoden ermittelten E-Modul-Werte meist sehr gut überein. Offensichtlich ist, wie man ohnehin vermuten musste, der konkrete Einfluss der Poren auf den Messprozess bei verschiedenen Messmethoden unterschiedlich, und die in konventioneller Weise bestimmte Kenngröße nicht mehr methodenunabhärigig und universell. Zur Überwindung dieses Zustands sollen zwei Wege verfolgt werden: Der eine Ansatz besteht darin, die Art der Anwendung des registrierenden Eindruckversuchs dem Problem angepasst zu modifizieren (z. B. Messung bei geringsten Lasten, Einsatz von Deckschichten, Detektierung des Übergangs elastisch - plastisch) und auf diese Weise aufzuklären, inwieweit es auf der Grundlage der konventionellen Theorie doch möglich ist, relevante, verallgemeinerbare Aussagen zu erhalten. Im zweiten Ansatz soll versucht werden, ein theoretisches Modell auf der Grundlage einer speziellen Boundary-Element-(BE-)Methode zur Beschreibung des mechanischen Verhaltens poröser Materialien zu entwickeln und zu testen. Dieses Modell soll in einem weiteren Schritt in ein Programmpaket implementiert werden, das es in kurzer Rechenzeit gestattet, Vorhersagen zum mechanischen Versagen poröser Materialien in konkreten Einsatzfällen (z. B. beim Chemisch-Mechanischen-Polieren, CMP) zu machen, gezielte Optimierungen und Modifikationen der Materialien vorzunehmen und Vorschläge für den Schichtaufbau bzw. die Herstellungsprozesse der low-k-Schichtstapel zu unterbreiten. Es kann auch erwartet werden, in diesem Zusammenhang neue Parameter zu identifizieren, die das mechanische Verhalten poröser Materialien adäquat beschreiben. Für das Vorhaben steht an der TU Chemnitz ein hochgenaues Eindruck-Messgerät mit entsprechender Auswerte-Software sowie ein mathematisches Modell zur Vorhersage des mechanischen Versagens homogener Materialien und dünner Schichten zur Verfügung. Weiterhin ist die TUC in der Lage, poröse dielektrische Schichten und entsprechende Deckschichten' (Cap Layers) herzustellen und reale Einsatzbedingungen an einer CMPAnlage zu prüfen.
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会议论文
Modellierung von Nanodevices
  • 批准号:
    195215915
  • 项目类别:
    Research Units
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2011
  • 负责人:
    Professor Dr. Thomas Geßner (†)
  • 依托单位:
NEMS/MEMS and Nanomaterial-enhanced Passive Components Compatible with Advanced Nano-CMOS for Future One-chip Tunable RF Systems
  • 批准号:
    151246004
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    Professor Dr. Thomas Geßner (†)
  • 依托单位:
Poröse Polymere als low-k Dielektrika für Metallisierungssysteme in der Mikroelektronik
  • 批准号:
    5345999
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2002
  • 负责人:
    Professor Dr. Thomas Geßner (†)
  • 依托单位:
海外基金