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Mechanisms involved in anion defect formation in reactive sputte-deposition of fluoride and sulfide thin films and the surpression of the fformation
氟化物和硫化物薄膜反应溅射沉积中阴离子缺陷形成机制及其抑制
基本信息
- 批准号：15K06513
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2015
- 资助国家：日本
- 起止时间：2015-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Model calculation and visualization of time-dependent reactive gas mass balance change in Ti-O2 reactive sputtering
Ti-O2 反应溅射中随时间变化的反应气体质量平衡变化的模型计算和可视化
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yuta Bohya;Keisuke Akinaga;Eiji Kusano;草野 英二;Eiji Kusano
- 通讯作者：Eiji Kusano
反応性スパッタリングにおける反応性ガス消費の時間変化
反应溅射中反应气体消耗量的时间变化
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Eiji Kusano;Yu Kondo;草野 英二 ，松永 大輝;草野 英二
- 通讯作者：草野 英二
誤解してしまう水の三態と状態変化-開放系と閉鎖系-
被误解的水的三种状态及状态变化——开放系统和封闭系统——
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Kusano Eiji;Kondo Yu;草野 英二
- 通讯作者：草野 英二
乾燥および高湿環境におけるファインセラミックス薄膜摩擦摩耗試験方法の標準化への取り組み
标准化干湿环境下精细陶瓷薄膜摩擦磨损试验方法的努力
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Kusano Eiji;Kikuchi Naoto;草野 英二;草野英二 他5名
- 通讯作者：草野英二 他5名
Reactive sputter deposition of transparent and low refractive-index MgF2 thin films using a double-grid negative-ion retarding electrode
使用双栅极负离子延迟电极反应溅射沉积透明低折射率 MgF2 薄膜
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Eiji Kusano;Daiki Matsunaga
- 通讯作者：Daiki Matsunaga
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Nanto Hidehito
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