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Development of bipolar pulse accelerator by using pulsed power technology and creation of inovative pulsed ion implatation

Development of bipolar pulse accelerator by using pulsed power technology and creation of inovative pulsed ion implatation
利用脉冲功率技术开发双极脉冲加速器并创造创新的脉冲离子注入
批准号：
15H03961
负责人：
ITO Hiroaki
金额：
$10.73万
依托单位：
University of Toyama
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2019-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15H03961/
关键词：
パルス重イオンビーム両極性パルス加速器パルス電力技術パルスイオン注入レーザーイオン源両極性パルス加速超極性パルス加速器炭化ケイ素パルスイオン注入法

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反射三極管型仮想陰極発振器における出力マイクロ波電力測定と電極構造依存性
反射式三极管虚拟阴极振荡器中的输出微波功率测量和电极结构依赖性
DOI： --
发表时间： 2019
期刊：
影响因子： --
作者： [R. Suda, M. Yagi, A. kojima, N. Mori, J. Shirakashi, and N. Koshida, 寺田匡志，石田治康，伊藤弘昭, 春木亮太朗，田中稜大，伊藤弘昭]
通讯作者： 春木亮太朗，田中稜大，伊藤弘昭
Characteristics of pulsed heavy ion beam produced by bipolar pulse accelerator with gas puff plasma gun
双极脉冲加速器喷气等离子体枪产生脉冲重离子束的特性
DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
作者： [T.Honoki, K.Okajima, H.Ohashi, H.Ito]
通讯作者： H.Ito
仮想陰極発振器によるマイクロ波放射の共振器構造依存性
虚拟阴极振荡器微波辐射的谐振器结构依赖性
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [朴木太郎, 岡島慧人, 大橋隼人, 伊藤弘昭, 篠川尚吾，中村吏，青木希，大橋隼人，伊藤弘昭]
通讯作者： 篠川尚吾，中村吏，青木希，大橋隼人，伊藤弘昭
仮想陰極発振器における放射マイクロ波のカロリーメータを用いた電力評価
使用虚拟阴极振荡器中的辐射微波热量计进行功率评估
DOI： --
发表时间： 2017
期刊：
影响因子： --
作者： [丹羽郁弥, 寺前元裕，中村吏, 春木亮太朗, 佐藤友哉, 伊藤弘昭]
通讯作者： 伊藤弘昭
共 32 条
    Establishment of evaluation technique for thermo-viscoelastic property of glass using viscosity measurement
    • 批准号：
      18K03856
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.25万
    • 财政年份：
      2018
    • 负责人：
      ITO Hiroaki
    • 依托单位：
      Kindai University
    Contactless Pulsed Power Transfer System using Pulsed Power Technology for Running Electric Vehicle
    • 批准号：
      16K14211
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.08万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      ITO Hiroaki
    • 依托单位：
      University of Toyama
    Evaluation of adhesion quality and durability of die mold releasing agent for glass press molding at high temperature
    Verification of ion implantation method using intense pulsed heavy ion beam for next generation semiconductor
    • 批准号：
      24540534
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.16万
    • 财政年份：
      2012
    • 负责人：
      ITO Hiroaki
    • 依托单位：
      University of Toyama