Generation of intense pulsed metallic ion beam for next generation semiconductor and its application to ion implantation

下一代半导体强脉冲金属离子束的产生及其在离子注入中的应用

基本信息

批准号：
22740360
负责人：
ITO Hiroaki
金额：
$ 2.75万
依托单位：
University of Toyama
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2010
资助国家：
日本
起止时间：
2010 至 2011
项目状态：
已结题

项目摘要

To realize a new ion implantation technology named"pulsed ion beam implantation"to next-generation semiconductor, it is very important to develop the IPIB technology of generating high-purity ion beams from various species. We have developed a magnetically insulated ion diode for the generation of intense pulsed metallic ion beams in which the vacuum arc plasma gun is used as the ion source. When the ion diode was operated at a diode voltage of 200 kV and a diode current of 10 kA, the ion beam with ion current density of> 200 A/cm2 and pulse duration of 40 ns was obtained at 50 mm downstream from the anode. From Thomson parabola spectrometer measurement we found that Al+, Al2+and Al3+beams of 140-740 keV energy were accelerated with proton impurities of 160-190 keV energy. The purity was estimated to be 89%, which is much higher than that of the pulsed ion beam produced in the conventional ion diode. To evaluate the irradiation effect of the ion beam, an amorphous silicon thin film was used as the target, which was deposited on the glass substrate. The film was found to be poly-crystallized after the pulsed aluminum ion beam irradiation.

为了实现一种新的离子植入技术，称为下一代半导体，称为“脉冲离子束植入”，开发IPIB的技术是从各种物种中生成高纯度离子束的技术非常重要。我们已经开发了一种磁性绝缘的离子二极管，用于生成强烈的脉冲金属离子束，其中真空弧等离子体枪用作离子源。当离子二极管以200 kV的二极管电压和10 ka的二极管电流为单位时，离子电流密度> 200 A/cm2的离子束和脉冲持续时间为40 ns，从阳极下游50 mm处获得40 ns。从Thomson抛物线光谱仪测量中，我们发现Al+，Al2+和Al3+梁的140-740 keV能量用160-190 keV能量的质子杂质加速。纯度估计为89％，比常规离子二极管中产生的脉冲离子束的纯度高得多。为了评估离子束的辐照效应，将无定形硅薄膜用作靶标，该靶标沉积在玻璃基板上。发现该膜在脉冲铝离子束照射后被多结构化。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Fabrication of DLC Film by Pulsed Ion-Beam Ablation in a Plasma Focus Device

在等离子体聚焦装置中通过脉冲离子束烧蚀制备 DLC 薄膜

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
Research Report NIFS-PROC
影响因子：
0
作者：
Z.P.Wang;et.al.
通讯作者：
et.al.

プラズマフォーカス装置におけるパルスイオンビームの放射特性

等离子聚焦装置中脉冲离子束的辐射特性

DOI：
发表时间：
2011
期刊：
電気学会プラズマ研究会資料
影响因子：
0
作者：
岸本竜太;他2名
通讯作者：
他2名

Development of Bipolar Pulse Accelerator for High-Purity Intense Pulsed Ion Beam

高纯强脉冲离子束双极脉冲加速器的研制

DOI：
发表时间：
2011
期刊：
Research Report NIFS-PROC
影响因子：
0
作者：
H.Ito;et.al.
通讯作者：
et.al.

パルスパワー技術を用いた水中衝撃波のシャドウグラフ法による特性評価

采用阴影图法的脉冲功率技术表征水下冲击波

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
中谷泰彦;他3名
通讯作者：
他3名

Generation of High Current Pulsed Heavy Ion Beam for Application of Materials Processing

产生用于材料加工应用的高电流脉冲重离子束

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
H. Ito;Y. Ochiai;K. Masugata
通讯作者：
K. Masugata

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

ITO Hiroaki其他文献

Student self-assessment for learning improvement: OPPA in lower secondary school science class

学生学习改进自我评估：初中科学课中的OPPA

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
ITO Hiroaki;NAKAJIMA Masako,
通讯作者：
NAKAJIMA Masako,

子どもの存在は伝統化した家事分担を定着させるのかー要因配置実験を用いた家事分担の公平評価に関する検討ー

孩子的存在是否让传统的家务分工更加根深蒂固？基于因子分配实验的家务分工公平评价研究——

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
ITO Hiroaki;MIURA Akira;GOTO Yosuke;MIZUGUCHI Yoshikazu;MORIYOSHI Chikako;KUROIWA Yoshihiro;ROSERO-NAVARRO Nataly Carolina;TADANAGA Kiyoharu;片岡純也;尾藤央延
通讯作者：
尾藤央延

Phase transition, magnetic, and electronic properties of CeOInS<sub>2</sub>

CeOInS<sub>2</sub>的相变、磁性和电子特性

DOI：
10.2109/jcersj2.20205
发表时间：
2021
期刊：
Journal of the Ceramic Society of Japan
影响因子：
1.1
作者：
ITO Hiroaki;MIURA Akira;GOTO Yosuke;MIZUGUCHI Yoshikazu;MORIYOSHI Chikako;KUROIWA Yoshihiro;ROSERO-NAVARRO Nataly Carolina;TADANAGA Kiyoharu
通讯作者：
TADANAGA Kiyoharu

Universal detection and genome sequencing technologies for phytoplasmas toward elucidating their diversity and risks in the Pacific island countries

植原体通用检测和基因组测序技术，以阐明其在太平洋岛国的多样性和风险

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
ITO Hiroaki;MIURA Akira;GOTO Yosuke;MIZUGUCHI Yoshikazu;MORIYOSHI Chikako;KUROIWA Yoshihiro;ROSERO-NAVARRO Nataly Carolina;TADANAGA Kiyoharu;前島健作・宮﨑彰雄・丹野和幸・鈴木拓海・鯉沼宏章・岩渕望・難波成任・山次康幸;Toshiro Shigaki
通讯作者：
Toshiro Shigaki

知識の逸脱性に対する時間を通じた評価の変化－特許を利用した探索的な分析－

知识偏差评估随时间的变化 - 使用专利的探索性分析 -

DOI：
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
0
作者：
ITO Hiroaki;MIURA Akira;GOTO Yosuke;MIZUGUCHI Yoshikazu;MORIYOSHI Chikako;KUROIWA Yoshihiro;ROSERO-NAVARRO Nataly Carolina;TADANAGA Kiyoharu;片岡純也
通讯作者：
片岡純也