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Evaluation of adhesion quality and durability of die mold releasing agent for glass press molding at high temperature

Evaluation of adhesion quality and durability of die mold releasing agent for glass press molding at high temperature
高温玻璃模压成型用模具脱模剂的粘合质量和耐久性评价
批准号：
15K21354
负责人：
ITO Hiroaki
金额：
$1.83万
依托单位：
Kindai University (2016)Aoyama Gakuin University (2015)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2017-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-15K21354/
关键词：
密着性状金型離型膜ガラス成形耐久性熱応力レーザ超音波離型膜熱衝撃試験圧子圧入試験高温環境DLC膜DLC

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Damage evaluation of DLC film for die mold releasing by thermal shock test
模具脱模用DLC膜的热冲击损伤评价
DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
作者： [Hiroaki ITO, Seiji OI and Hideo CHO]
通讯作者： Seiji OI and Hideo CHO
熱衝撃試験による金型離型用DLC膜の損傷評価
脱模用DLC膜的热冲击损伤评价
DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
作者： [Kimitake Ozaki, Junji KANNNO, Itaru KIMURA, Kei SHINODA, Takuhei SHOJI, Yuji Yoshikawa, 伊藤寛明，大井清二，長秀雄]
通讯作者： 伊藤寛明，大井清二，長秀雄
AE法を併用した高温環境下でのインデンテーション試験によるDLC膜の密着性状評価
AE法高温环境下压痕试验评价DLC薄膜的附着性能
DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
作者： [Shoji T, Zangwill L, Akagi T, Saunders L, Yarmohammadi A, Manalastas PI, Penteado R, Medeiros F, Weinreb R, 横山賢介，伊藤寛明，長秀雄]
通讯作者： 横山賢介，伊藤寛明，長秀雄
Establishment of evaluation technique for thermo-viscoelastic property of glass using viscosity measurement
  • 批准号：
    18K03856
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $2.25万
  • 财政年份：
    2018
  • 负责人：
    ITO Hiroaki
  • 依托单位：
    Kindai University
Contactless Pulsed Power Transfer System using Pulsed Power Technology for Running Electric Vehicle
  • 批准号：
    16K14211
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额：
    $2.08万
  • 财政年份：
    2016
  • 负责人：
    ITO Hiroaki
  • 依托单位：
    University of Toyama
Development of bipolar pulse accelerator by using pulsed power technology and creation of inovative pulsed ion implatation
  • 批准号：
    15H03961
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $10.73万
  • 财政年份：
    2015
  • 负责人：
    ITO Hiroaki
  • 依托单位：
    University of Toyama
Verification of ion implantation method using intense pulsed heavy ion beam for next generation semiconductor
  • 批准号：
    24540534
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $3.16万
  • 财政年份：
    2012
  • 负责人：
    ITO Hiroaki
  • 依托单位：
    University of Toyama