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Fabrication of "Smart Window" using oxide semiconductors

Fabrication of "Smart Window" using oxide semiconductors
使用氧化物半导体制造“智能窗”
批准号:
16K06274
负责人:
Sugiyama Mutsumi
金额:
$2.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31

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DOI: 10.7567/jjap.55.088003
发表时间: 2016-07
期刊: Japanese Journal of Applied Physics
影响因子: 1.5
作者: [M. Sugiyama;H. Nakai;Gaku Sugimoto;A. Yamada;S. Chichibu]
通讯作者: M. Sugiyama;H. Nakai;Gaku Sugimoto;A. Yamada;S. Chichibu
杉山睦 | 論文・著書・学会発表・特許 | 東京理科大学
Mutsumi Sugiyama | 论文、书籍、会议报告、专利 | 东京理科大学
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
電子デバイスへの応用に向けたNiO薄膜およびNiO/絶縁膜に与えるポストプロセスの影響
后处理对用于电子设备应用的 NiO 薄膜和 NiO/绝缘膜的影响
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [岡田 浩明, 王 澤樺, 田沼 涼, 杉山 睦]
通讯作者: 杉山 睦
Effect of Hall mobility of SnO2 thin film for sensitivity of visible-light-transparency CO2 sensor
SnO2薄膜霍尔迁移率对可见光透明CO2传感器灵敏度的影响
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [R. Tanuma, H. Okada, T. Ejiri, and M. Sugiyama]
通讯作者: and M. Sugiyama
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