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Investigation of Ferroelectric Property Based on Nitride/Oxide Stack Structure and Its Application for Diamond FET

Investigation of Ferroelectric Property Based on Nitride/Oxide Stack Structure and Its Application for Diamond FET
基于氮化物/氧化物叠层结构的铁电性能研究及其在金刚石FET中的应用
批准号:
16K06330
负责人:
Imura Masataka
金额:
$3.08万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31

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Mg ドーピングによる高 In 組成 InGaN の表面-バルク電子状態変化
Mg 掺杂导致高 In 成分 InGaN 的表面体电子态变化
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [井村将隆, 津田俊輔, 長田貴弘, 山下良之, 吉川英樹, 小林啓介, 小出康夫, 山口智広, 金子昌充, 上松尚, 荒木努, 名西やすし]
通讯作者: 名西やすし
DOI: 10.7567/jjap.57.04fr01
发表时间: 2018-02
期刊: Japanese Journal of Applied Physics
影响因子: 1.5
作者: [Tsubasa Matsumoto;H. Kato;T. Makino;M. Ogura;D. Takeuchi;S. Yamasaki;M. Imura;A. Ueda;T. Inokuma;N. Tokuda]
通讯作者: Tsubasa Matsumoto;H. Kato;T. Makino;M. Ogura;D. Takeuchi;S. Yamasaki;M. Imura;A. Ueda;T. Inokuma;N. Tokuda
硬X線光電子分光法を用いたInGaN系窒化物半導体の表面ーバルク電子状態評価
使用硬 X 射线光电子能谱评估 InGaN 基氮化物半导体的表面电子态
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [井村将隆, 小出康夫, 荒木努, 名西やすし]
通讯作者: 名西やすし
Microstructure of In0.20Ga0.80N nanowires on Si (111) substrate evaluated by aberration-corrected scanning transmission electron microscopy
通过像差校正扫描透射电子显微镜评估 Si (111) 衬底上 In0.20Ga0.80N 纳米线的微观结构
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [M. Imura, R. G. Banal, Y. Koide, Y. Nakayama, M. Takeguchi, S. Mizutani, T. Tabata, S. Nakagawa, Y. Honda, M. Yamaguchi, and H. Amano]
通讯作者: and H. Amano
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    Smark Chokers: Development of Wearable Monitoring System from Neck
    • 批准号:
      16K00290
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.0万
    • 财政年份:
      2016
    • 负责人:
      Imura Masataka
    • 依托单位:
    Energy Saving Normally-off p-Channel Diamond FET with High-Current Operation
    • 批准号:
      25420349
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.33万
    • 财政年份:
      2013
    • 负责人:
      Imura Masataka
    • 依托单位:
    海外基金