Study on nitrogen-polar InGaAs-channel high electron mobility transistors
氮极性InGaAs沟道高电子迁移率晶体管的研究
基本信息
- 批准号:16H04341
- 负责人:
- 金额:$ 10.65万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Threshold Voltage Engineering of Recessed MIS-Gate N-polar GaN HEMTs
嵌入式 MIS 栅极 N 极 GaN HEMT 的阈值电压工程
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Prasertsuk;T. Tanikawa;T. Kimura;S. Kuboya;T. Suemitsu;T. Matsuoka
- 通讯作者:T. Matsuoka
N-polar GaN MIS-HEMTs with flat interface grown by optimized MOVPE
通过优化 MOVPE 生长具有平坦界面的 N 极 GaN MIS-HEMT
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Prasertsuk;T. Tanikawa;T. Kimura;S. Kuboya;T. Suemitsu;T. Matsuoka
- 通讯作者:T. Matsuoka
Reduced gate leakage current in N-polar GaN MIS-HEMTs
减少 N 极 GaN MIS-HEMT 中的栅极漏电流
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Prasertsuk;A. Miura;S. Tanaka;T. Tanikawa;T. Kimura;S. Kuboya;T. Suemitsu;T. Matsuoka
- 通讯作者:T. Matsuoka
窒素極性GaN HEMT の現状と今後の展望
氮极性GaN HEMT的现状及未来展望
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Diebold;S. Nakai;K. Nishio;J. Kim;K. Tsuruda;T. Mukai;M. Fujita;and T. Nagatsuma;末光哲也
- 通讯作者:末光哲也
MOVPE growth of N-polar GaN/AlGaN/GaN heterostructure on small off-cut substrate for flat interface
在小切边基板上 MOVPE 生长 N 极 GaN/AlGaN/GaN 异质结构以实现平坦界面
- DOI:10.1109/iciprm.2016.7528837
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Prasertsuk;S. Tanaka;T. Tanikawa;K. Shojiki;T. Kimura;A. Miura;R. Nonoda;F. Hemmi;S. Kuboya;R. Katayama;T. Suemitsu;T. Matsuoka
- 通讯作者:T. Matsuoka
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- 影响因子:1.5
- 作者:
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- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Suemitsu Tetsuya;Makabe Isao;T. Suemitsu and I. Makabe - 通讯作者:
T. Suemitsu and I. Makabe
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- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
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10.1002/pssb.201900528 - 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Suemitsu Tetsuya;Makabe Isao - 通讯作者:
Makabe Isao
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- DOI:
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2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Suemitsu Tetsuya;Makabe Isao;K. Takiguchi - 通讯作者:
K. Takiguchi
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- 资助金额:
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- 资助金额:
$ 10.65万 - 项目类别:
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- 资助金额:
$ 10.65万 - 项目类别:
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