课题基金 / 基金详情

Study on N-polar GaN MIS-HEMTs for power devices

Study on N-polar GaN MIS-HEMTs for power devices
功率器件用N极GaN MIS-HEMT的研究
批准号:
19H02165
负责人:
Suemitsu Tetsuya
金额:
$10.82万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-04-01 至 2022-03-31

项目摘要

项目成果

Suemitsu Tetsuya的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(6)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
分極電荷の広がりを考慮したGa極性・N極性の実効ショットキー障壁高さモデル
考虑极化电荷扩散的 Ga 极性和 N 极性的有效肖特基势垒高度模型
DOI: --
发表时间: 2020
期刊:
影响因子: --
作者: [末光哲也, 眞壁勇夫]
通讯作者: 眞壁勇夫
Evidence of carrier trapping at extrinsic gate region in N-polar GaN/AlGaN MIS HEMTs
N 极 GaN/AlGaN MIS HEMT 中非本征栅极区域载流子俘获的证据
DOI: --
发表时间: 2021
期刊:
影响因子: --
作者: [K. Prasertsuk, T. Suemitsu and T. Matsuoka]
通讯作者: T. Suemitsu and T. Matsuoka
Effective Schottky Barrier Height Model for N‐Polar and Ga‐Polar GaN by Polarization‐Induced Surface Charges with Finite Thickness
基于有限厚度极化感应表面电荷的 N 极和 Ga 极 GaN 的有效肖特基势垒高度模型
DOI: 10.1002/pssb.201900528
发表时间: 2020
期刊: physica status solidi (b)
影响因子: --
作者: [Suemitsu Tetsuya, Makabe Isao]
通讯作者: Makabe Isao
Reverse bias annealing effects in N-polar GaN/AlGaN metal-insulator-semiconductor high electron mobility transistors
N 极 GaN/AlGaN 金属-绝缘体-半导体高电子迁移率晶体管中的反向偏压退火效应
DOI: 10.35848/1347-4065/ac2214
发表时间: 2021
期刊: Japanese Journal of Applied Physics
影响因子: 1.5
作者: [Prasertsuk Kiattiwut, Suemitsu Tetsuya, Matsuoka Takashi]
通讯作者: Matsuoka Takashi
6
    Study on nitrogen-polar InGaAs-channel high electron mobility transistors
    • 批准号:
      16H04341
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $10.65万
    • 财政年份:
      2016
    • 负责人:
      Suemitsu Tetsuya
    • 依托单位:
    Study on GaN-based vertical transistors using ScAlMgO4 substrates
    • 批准号:
      15K13963
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额:
      $2.5万
    • 财政年份:
      2015
    • 负责人:
      Suemitsu Tetsuya
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金
    异质结极化场局域调控机制与选区外延p-GaN HEMT研究
    图形化衬底调控极端电应力下硅基氮化 镓HEMT器件位错缺陷的形成演化机制研 究
    面向无人机应用的增强型p-gate AlGaN/GaN HEMT高功率微波辐射效应及 机理研究
    AlGaN/GaN HEMT射频器件ESD应力下损伤机理研究
    • 批准号:
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2024
    • 负责人:
      叶然
    • 依托单位: