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Development of advanced reactive plasma-enhanced processes for low-temperature large-area formation of next-generation oxide semiconductor devices

Development of advanced reactive plasma-enhanced processes for low-temperature large-area formation of next-generation oxide semiconductor devices
开发先进的反应等离子体增强工艺，用于低温大面积形成下一代氧化物半导体器件
批准号：
16H04509
负责人：
Setsuhara Yuichi
金额：
$11.07万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2020-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16H04509/
关键词：
プラズマ加工反応性プラズマプラズマ制御低温プロセス酸化物半導体

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Low-temperature formation of high-mobility a-InGaZnOx films using plasma-enhanced reactive processes
使用等离子体增强反应工艺低温形成高迁移率 a-InGaZnOx 薄膜
DOI： 10.7567/1347-4065/ab219c
发表时间： 2019
期刊： Japanese Journal of Applied Physics
影响因子： 1.5
作者： [Takenaka Kosuke, Endo Masashi, Hirayama Hiroyuki, Uchida Giichiro, Ebe Akinori, Setsuhara Yuichi]
通讯作者： Setsuhara Yuichi
Low-temperature formation of high-mobility InGaZnOx thin film transistor by ICP-enhanced reactive plasma processes
通过 ICP 增强反应等离子体工艺低温形成高迁移率 InGaZnOx 薄膜晶体管
DOI： --
发表时间： 2019
期刊：
影响因子： --
作者： [Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Masashi Endo, Tomoki Yoshitani, Giichiro Uchida, Akinori Ebe]
通讯作者： Akinori Ebe
反応性プラズマプロセスを用いた機能性薄膜合成
使用反应等离子体工艺合成功能薄膜
DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [竹中　弘祐, 内田　儀一郎, 節原　裕一]
通讯作者： 節原　裕一
Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistors for Flexible Electrinics with ICP-Enhanced Reactive Plasma Processes
采用 ICP 增强反应等离子体工艺低温形成用于柔性电子器件的高迁移率 IGZO 薄膜晶体管
DOI： --
发表时间： 2017
期刊：
影响因子： --
作者： [Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Masashi Endo, Giichiro Uchida, Akinori Ebe]
通讯作者： Akinori Ebe
共 38 条
    Development of novel atomic-layer-deposition plasma PVD processes for efficient and high-rate reactive film-formation processes
    • 批准号：
      26630335
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.5万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      Setsuhara Yuichi
    • 依托单位：
      Osaka University
    海外基金