Development of new barrier material of interfacial-layer-free for ultrafine TSV
Development of new barrier material of interfacial-layer-free for ultrafine TSV
新型无界面层超细TSV阻隔材料的研制
批准号：
17K06337
负责人：
Sato Masaru
金额：
$3.0万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
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Relationship between TiN films with different orientations and their barrier properties
不同取向TiN薄膜与其阻隔性能的关系
不同取向TiN薄膜与其阻隔性能的关系
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
J. Jpn. Appl. Phys
影响因子：
--
作者：
[宮坂日和, 井口傑, 三島裕樹, 井口 傑，三島 裕樹, 三島 裕樹，井口 傑, 井口傑，三島裕樹, 三島裕樹，井口傑, Masaru Sato and Mayumi B. Takeyama]
通讯作者：
Masaru Sato and Mayumi B. Takeyama
XRD and EBSD analysis of Cu film on randomly oriented ZrN x film as the underlying materials
作为底层材料的随机取向 ZrN x 薄膜上的 Cu 薄膜的 XRD 和 EBSD 分析
作为底层材料的随机取向 ZrN x 薄膜上的 Cu 薄膜的 XRD 和 EBSD 分析
DOI：
10.35848/1347-4065/ab7f57
发表时间：
2020
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
[Sato Masaru, Yasuda Mitsunobu, Takeyama Mayumi B.]
通讯作者：
Takeyama Mayumi B.
反応性スパッタ法によって得られたZrN 膜上のCu(111)高配向化
反应溅射获得 ZrN 薄膜上高度取向的 Cu(111)
反应溅射获得 ZrN 薄膜上高度取向的 Cu(111)
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[佐藤 勝, 武山 真弓]
通讯作者：
武山 真弓
ZrN 膜上に成膜したCu(111)優先配向
ZrN薄膜上Cu(111)择优取向沉积
ZrN薄膜上Cu(111)择优取向沉积
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[佐藤 勝, 安田 光伸, 武山 真弓]
通讯作者：
武山 真弓
反応性スパッタ法によるTiNx膜の低温作製
反应溅射法低温制备TiNx薄膜
反应溅射法低温制备TiNx薄膜
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[佐藤 勝, 武山 真弓]
通讯作者：
武山 真弓
Development of comprehensive analytical method for depolymerized lignin
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批准号：15K14779
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项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额：$2.0万
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财政年份：2015
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负责人：Sato Masaru
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依托单位：