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Effects of dielectric loss mechanisms at electron trapping sites on damage recovery and reliability improvement in thin films

Effects of dielectric loss mechanisms at electron trapping sites on damage recovery and reliability improvement in thin films
电子捕获位点介电损耗机制对薄膜损伤恢复和可靠性改进的影响
批准号：
21K18875
负责人：
Eriguchi Koji
金额：
$4.08万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2021
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2021-07-09 至 2023-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21K18875/
关键词：
欠陥マイクロ波照射シリコン窒化膜電気容量マイクロ波窒化ホウ素膜トンネルリーク電流微分電気容量ナノ欠陥構造窒化シリコン窒化ホウ素電磁波照射

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Design of sp-bonds in functional BN films by arc discharge with independent parameter control
  • 批准号：
    20H02481
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $11.56万
  • 财政年份：
    2020
  • 负责人：
    Eriguchi Koji
  • 依托单位：
    Kyoto University
Study of defect generation processes in nano-scale devices and the deign methodology based on stochastic theory
  • 批准号：
    16K14405
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额：
    $2.25万
  • 财政年份：
    2016
  • 负责人：
    Eriguchi Koji
  • 依托单位：
    Kyoto University
Study of structure modification of boron nitride films by plasma exposure - the effect of ion energy distribution function
  • 批准号：
    15H04159
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $10.32万
  • 财政年份：
    2015
  • 负责人：
    Eriguchi Koji
  • 依托单位：
    Kyoto University
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