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Design of sp-bonds in functional BN films by arc discharge with independent parameter control

通过独立参数控制的电弧放电设计功能性 BN 薄膜中的 sp 键

基本信息

批准号：
20H02481
负责人：
Eriguchi Koji
金额：
$ 11.56万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（13）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

京都大学　航空宇宙工学専攻　推進工学分野（江利口研）

京都大学航空航天工学科推进工程领域（Eriguchi Lab）

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

sp結合ナノネットワーク構造変化に起因する窒化ホウ素膜特性遷移の解析

sp键合纳米网络结构变化引起的氮化硼薄膜性能转变分析

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takahiro Ihara;Takumi Ojima;Ryuji Oshima;Yutaka Kimura;Atsuhito Sawabe;Hideo Aida;濱野誉，松田崇行，朝本雄也，野間正男，長谷川繁彦，山下満，占部継一郎，江利口浩二
通讯作者：
濱野誉，松田崇行，朝本雄也，野間正男，長谷川繁彦，山下満，占部継一郎，江利口浩二

Spectroscopic ellipsometry characterization of boron nitride films synthesized by a reactive plasma-assisted coating method

DOI：
10.1063/5.0077147
发表时间：
2022-01
期刊：
Applied Physics Letters
影响因子：
4
作者：
T. Hamano;T. Matsuda;Y. Asamoto;M. Noma;S. Hasegawa;M. Yamashita;K. Urabe;K. Eriguchi
通讯作者：
T. Hamano;T. Matsuda;Y. Asamoto;M. Noma;S. Hasegawa;M. Yamashita;K. Urabe;K. Eriguchi

Controlling of nano-network structures in BN films by a reactive plasma assisted-coating technique and the sputtering characteristics against plasma exposure

反应等离子体辅助涂层技术控制 BN 薄膜纳米网络结构及等离子体暴露溅射特性

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Matsuda;T. Hamano;Y. Asamoto;M. Noma;S. Hasegawa;M. Yamashita K. Urabe;and K. Eriguchi
通讯作者：
and K. Eriguchi

結合状態を制御した窒化ホウ素膜の高速堆積に向けた窒素ラジカルフラックス最大化に関する研究

氮自由基通量最大化高速沉积受控键态氮化硼薄膜的研究

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Watanabe Yuto;Matsuno Takashi;Hama Takayuki;Matsuda Tomoko;Okitsu Yoshitaka;Hayashi Seiji;Takada Kenji;Naito Tadashi;朝本雄也，濱野誉，松田崇行，野間正男，長谷川繁彦，山下満，占部継一郎，江利口浩二
通讯作者：
朝本雄也，濱野誉，松田崇行，野間正男，長谷川繁彦，山下満，占部継一郎，江利口浩二

DOI：
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作者：
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Eriguchi Koji其他文献

Multi-energy handling of fast flavor conversions with matter collisions

通过物质碰撞进行快速风味转换的多能量处理

DOI：
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;Chinami Kato
通讯作者：
Chinami Kato

プラズマ気液界面サイエンスが拓く持続可能な未来社会

等离子气液界面科学开创可持续的未来社会

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;佐々木渉太，丸子高志，西牧真木夫，河合伸典，北川清太郎，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，H. Iwamoto，K. Takashima，H. Takahashi;金子俊郎
通讯作者：
金子俊郎

Characterization of the distribution of defects introduced by plasma exposure in Si substrate

Si 衬底中等离子体暴露引入的缺陷分布特征

DOI：
10.1116/1.5048027
发表时间：
2019
期刊：
Journal of Vacuum Science & Technology A
影响因子：
2.9
作者：
Sato Yoshihiro;Shibata Satoshi;Uedono Akira;Urabe Keiichiro;Eriguchi Koji
通讯作者：
Eriguchi Koji

プラズマ生成と電子温度・イオンエネルギー制御の基礎

等离子体生成和电子温度/离子能量控制的基础知识

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;佐々木渉太，丸子高志，西牧真木夫，河合伸典，北川清太郎，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，H. Iwamoto，K. Takashima，H. Takahashi;金子俊郎;金子俊郎
通讯作者：
金子俊郎

大気圧空気プラズマによる未来型農業とセンシング技術

使用大气压空气等离子体的未来农业和传感技术

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro;佐々木渉太，丸子高志，西牧真木夫，河合伸典，北川清太郎，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，H. Iwamoto，K. Takashima，H. Takahashi;金子俊郎;金子俊郎;佐々木渉太，高島圭介，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，and K. Takashima;S. Sasaki，S. Osana，M. Yamaya，H. Nishimura，R. Nagatomi，and T. Kaneko;T. Kaneko，S. Sasaki，K. Takashima，A. Higashitani，S. Ando，H. Takahashi;金子俊郎;金子俊郎;佐々木渉太，高島圭介，金子俊郎;T. Kaneko，S. Sasaki，K. Takashima，A. Higashitani，S. Ando，H. Takahashi;金子俊郎
通讯作者：
金子俊郎