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Improving the output current of boron-doped diamond MOSFETs

Improving the output current of boron-doped diamond MOSFETs
提高硼掺杂金刚石 MOSFET 的输出电流
批准号:
23K03966
负责人:
劉 江偉
金额:
$3.0万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2023
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2023-04-01 至 2026-03-31

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空间辐射环境下沟槽型SiC MOSFET器件栅氧长期可靠性研究
  • 批准号:
    2026JJ60454
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2026
  • 负责人:
    桂庆忠
  • 依托单位:
SiC MOSFET瞬态开关建模与开关振荡抑制研究
  • 批准号:
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2025
  • 负责人:
    于安宁
  • 依托单位:
SiC MOSFET器件多时间尺度电热应力栅极主动控制研究
高可靠 4H-SiC MOSFET 能带调控机理与低沟道势垒 新结构研究
  • 批准号:
    2024JJ5044
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2024
  • 负责人:
    吴丽娟
  • 依托单位: