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SELF-ETCH BOND AGENT IN THE RESTORATION OF NON-CARIOUS CERVICAL LESIONS
自蚀粘结剂在非龋性宫颈病变修复中的应用
基本信息
- 批准号：7201373
- 负责人：
- 金额：$ 1.55万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：
- 财政年份：2005
- 资助国家：美国
- 起止时间：2005-03-01 至 2006-02-28
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
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- 批准号：
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- 资助金额：
$ 1.55万 - 项目类别：
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- 资助金额：
$ 1.55万 - 项目类别：
Studentship
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- 资助金额：
$ 1.55万 - 项目类别：
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- 批准号：
2441670 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 1.55万 - 项目类别：
Studentship
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- 资助金额：
$ 1.55万 - 项目类别：
Research Grants
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- 批准号：
1436081 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 1.55万 - 项目类别：
Standard Grant
Development of SNAP-tag technology for deep-etch electron microscopy
深蚀刻电子显微镜 SNAP 标签技术的开发
- 批准号：
26840049 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 1.55万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Development of adhesive system of one-step self-etch adhesive with a high bond durability
开发具有高粘合耐久性的一步式自蚀刻粘合剂的粘合系统
- 批准号：
25462969 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 1.55万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)