Screen-Grid FET Fabrication / progressing pump priming project
Screen-Grid FET 制造/推进泵启动项目
基本信息
- 批准号:EP/F026129/1
- 负责人:
- 金额:$ 10.25万
- 依托单位:
- 依托单位国家:英国
- 项目类别:Research Grant
- 财政年份:2007
- 资助国家:英国
- 起止时间:2007 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
A novel Field Effect Transistor structure was proposed with a peculiar 3D gating configuration - the Screen-Grid FET (SGrFET). In this geometry the gate, that controls the carriers flowing in the channel, are gate cylinders perpendicular to the current flow in contrast to the classical approach where the gate is in the same plane as the channel. Simulations on this novel device geometry show promising characteristics that are maintained whilst downscaling to the nanometer scale and also show a high one-device functionality for logic applications. Moreover the novel gate geometry - holes in the surface - would lend themselves to trapping molecules and the FET character of the device would amplify the resulting signal.Some of the fabrication steps needed to make this novel device are not standard and need to be investigated in order to ensure that making the devices will be possible in the future. The research project is written to that aim. At this stage a small amount of silicon on insulator (SOI) wafers and test wafers have been processed to show the feasibility of gate holes fabrication. The funding requested here will help to progress this batch to the final SGrFET stage. This will allow full feedback on fabrication issues and will also give the first experimental results on the novel device.
提出了一种新型场效应晶体管结构--屏栅场效应晶体管(SGrFET)。在这种几何结构中,控制沟道中载流子流动的栅极是垂直于电流的栅极圆柱体,这与栅极与沟道处于同一平面的经典方法相反。对这种新型器件几何形状的模拟显示出在缩小到纳米尺度的同时保持的有希望的特性,并且还显示出用于逻辑应用的高单器件功能。此外,新的栅极几何形状--表面上的空穴--将有助于捕获分子,器件的FET特性将放大产生的信号。制造这种新型器件所需的一些制造步骤并不标准,需要进行研究,以确保将来能够制造这种器件。这个研究项目就是为此目的而写的。在这个阶段,少量的绝缘体上硅(SOI)晶片和测试晶片已被处理,以显示栅孔制造的可行性。这里要求的资金将有助于将这一批推进到最后的SGrFET阶段。这将允许对制造问题的充分反馈,并将给出新设备的第一个实验结果。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
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