BF+2分子离子注入硅辐射损伤的反常行为
批准号:
19375057
项目类别:
面上项目
资助金额:
7.0 万元
负责人:
林成鲁
依托单位:
学科分类:
粒子束与物质相互作用
结题年份:
1996
批准年份:
1993
项目状态:
已结题
项目参与者:
周祖尧、何治平、陈莉芝、朱文化、王连卫
SiGe-OI新材料的研究
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批准号:60476006
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项目类别:面上项目
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资助金额:27.0万元
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批准年份:2004
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负责人:林成鲁
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依托单位:
LiTaO3/Si结构的智能剥离(Smart-cut)研究
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批准号:90101012
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项目类别:重大研究计划
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资助金额:23.0万元
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批准年份:2001
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负责人:林成鲁
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依托单位:
以AlN为绝缘埋层的新型SOI材料探索
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批准号:69976034
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项目类别:面上项目
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资助金额:17.3万元
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批准年份:1999
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负责人:林成鲁
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依托单位:
硅中H+,He+离子注入引起的纳米孔层及其应用探索
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批准号:19775062
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项目类别:面上项目
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资助金额:12.0万元
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批准年份:1997
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负责人:林成鲁
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依托单位:
硅上β-FeSi2的超高真空镀膜外延及其光学性质研究
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批准号:69576036
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项目类别:面上项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:1995
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负责人:林成鲁
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依托单位:
国内基金
海外基金