硅上β-FeSi2的超高真空镀膜外延及其光学性质研究
批准号:
69576036
项目类别:
面上项目
资助金额:
10.0 万元
负责人:
林成鲁
依托单位:
学科分类:
F0405.半导体器件物理
结题年份:
1998
批准年份:
1995
项目状态:
已结题
项目参与者:
王连卫、林贤、陈向东、郑立荣、沈勤我、倪如山
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SiGe-OI新材料的研究
- 批准号:60476006
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:27.0万元
- 批准年份:2004
- 负责人:林成鲁
- 依托单位:
LiTaO3/Si结构的智能剥离(Smart-cut)研究
- 批准号:90101012
- 项目类别:重大研究计划
- 资助金额:23.0万元
- 批准年份:2001
- 负责人:林成鲁
- 依托单位:
以AlN为绝缘埋层的新型SOI材料探索
- 批准号:69976034
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:17.3万元
- 批准年份:1999
- 负责人:林成鲁
- 依托单位:
硅中H+,He+离子注入引起的纳米孔层及其应用探索
- 批准号:19775062
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:12.0万元
- 批准年份:1997
- 负责人:林成鲁
- 依托单位:
BF+2分子离子注入硅辐射损伤的反常行为
- 批准号:19375057
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:7.0万元
- 批准年份:1993
- 负责人:林成鲁
- 依托单位:
国内基金
海外基金
