硅中H+,He+离子注入引起的纳米孔层及其应用探索
批准号：
19775062
项目类别：
面上项目
资助金额：
12.0 万元
负责人：
林成鲁
依托单位：
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
学科分类：
A3001.粒子束与物质相互作用
结题年份：
2000
批准年份：
1997
项目状态：
已结题
项目参与者：
张苗、高剑侠、多新中、倪如山
关键词：
纳米孔层H+杂质吸收He+离子注入
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