课题基金基金详情
细长管筒内壁自阳极磁控溅射电场反转离子加速新方法及高结合力膜层沉积研究
批准号：
--
项目类别：
面上项目
资助金额：
64 万元
负责人：
田修波
依托单位：
哈尔滨工业大学
学科分类：
--
结题年份：
--
批准年份：
2020
项目状态：
未结题
项目参与者：
田修波
关键词：
细长管筒内壁高结合力膜层沉积离子加速溅射电场阳极新方法
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细长钢管内壁长寿命耐高温硬质涂层溅射沉积方法研究
  • 批准号：
    U2241233
  • 项目类别：
    联合基金项目
  • 资助金额：
    259.00万元
  • 批准年份：
    2022
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
含碳气体超高电流脉冲碳弧增强辉光放电及DLC薄膜高速沉积研究
  • 批准号：
    11875119
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    66.0万元
  • 批准年份：
    2018
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
大面积工件自源自偏压空心阴极放电及用于高硬超厚DLC薄膜沉积研究
  • 批准号：
    11675047
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    78.0万元
  • 批准年份：
    2016
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
高离化率磁控溅射新方法及薄膜制备和形成机理研究
  • 批准号：
    U1330110
  • 项目类别：
    联合基金项目
  • 资助金额：
    88.0万元
  • 批准年份：
    2013
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
空心阴极放电自诱导电子加速效应及深熔焊接研究
  • 批准号：
    51175118
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    62.0万元
  • 批准年份：
    2011
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
大体积等离子体电容耦合射频激励的极板自偏压溅射效应抑制及放电规律研究
  • 批准号：
    10975041
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    40.0万元
  • 批准年份：
    2009
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
微小电感耦合射频等离子体细长管筒内表面离子注入新技术及应用研究
  • 批准号：
    10775036
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    36.0万元
  • 批准年份：
    2007
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
一种细长管内表面离子注入新技术及其机理研究- - - - 射频放电/高压脉冲直接耦合的内源/正偏压等离子体离子注入
  • 批准号：
    10575025
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    35.0万元
  • 批准年份：
    2005
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
绝缘材料等离子体浸没离子注入表面优化
  • 批准号：
    10345003
  • 项目类别：
    专项基金项目
  • 资助金额：
    8.0万元
  • 批准年份：
    2003
  • 负责人：
    田修波
  • 依托单位：
    哈尔滨工业大学
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