硅基锗锡合金材料外延生长机理研究
批准号:
61176013
项目类别:
面上项目
资助金额:
72.0 万元
负责人:
成步文
依托单位:
学科分类:
半导体材料
结题年份:
2015
批准年份:
2011
项目状态:
已结题
项目参与者:
张广泽、罗丽萍、苏少坚、胡炜玄、刘智、李亚明
中文摘要
GeSn是新一代硅基异质结构材料,其晶格常数和带宽可以在大范围内进行调节,并有可能实现直接带隙,在硅基高效发光和探测、硅基红外器件、高效全光谱太阳能电池研制、硅基化合物材料制备等方面具有重要应用前景。课题将以外延生长高质量硅基GeSn合金材料为目标,采用低温锗或低温锗锡过渡层和复合过渡层技术,研究硅基GeSn合金外延中的应变弛豫、位错控制;采用创新的CVD与MBE结合的生长模式,以及气体原子表面修饰技术,研究Sn的分凝与表面状态和应变状态的关系,研究抑制Sn分凝的方法和途径;优化材料生长工艺,制备出高质量的硅基GeSn合金材料,并试制GeSn长波长光电探测器,为硅基光电子的发展提供坚实的新的材料基础。
英文摘要
GeSn是新一代硅基四族材料,其晶格常数和带宽可以在大范围内进行调节,并有可能实现直接带隙,在硅基高效发光和探测、硅基红外器件、高效全光谱太阳能电池研制等方面具有重要应用前景。课题以外延生长高质量硅基GeSn合金材料为目标。课题研究了硅基GeSn合金外延中的应变弛豫、位错控制,采用Ge过渡层技术减缓硅衬底上外延GeSn时的晶格失配,采用低温外延技术抑制Sn分凝。通过优化生长工艺,制备出Sn组分高达15.5%的高质量的硅基GeSn合金材料。并用生长的材料制备出响应波长拓展到2微米的GeSn长波长光电探测器和MOSFET器件。
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Germanium-tin n+/p junction formed using phosphorus ion implant and 400 deg;C rapid thermal anneal
使用磷离子注入和400形成的锗-锡n/p结
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
IEEE Electron Device Letters
影响因子:
4.9
作者:
[C. Xue, B. Cheng, G. Han, Y.-C. Yeo]
通讯作者:
Y.-C. Yeo
Comparative studies of band structures for biaxial (100)-, (110)-, and (111)strained GeSn: A first-principles calculation with GGA plus U approach
双轴 (100)、(110) 和 (111) 应变 GeSn 能带结构的比较研究:使用 GGA 加 U 方法的第一性原理计算
DOI:
10.1063/1.4933394
发表时间:
2015-10-28
期刊:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子:
3.2
作者:
[Huang, Wenqi, Cheng, Buwen, Liu, Zhi]
通讯作者:
Liu, Zhi
DOI:
10.1016/j.physb.2014.03.008
发表时间:
2014-06
期刊:
Physica B-condensed Matter
影响因子:
2.8
作者:
[Wenqi Huang;B. Cheng;C. Xue;Chuanbo Li]
通讯作者:
Wenqi Huang;B. Cheng;C. Xue;Chuanbo Li
Sub-400 degrees C Si2H6 Passivation, HfO2 Gate Dielectric, and Single TaN Metal Gate: A Common Gate Stack Technology for In0.7Ga0.3As and Ge1-xSnx CMOS
低于 400 摄氏度的 Si2H6 钝化、HfO2 栅极电介质和单 TaN 金属栅极:适用于 In0.7Ga0.3As 和 Ge1-xSnx CMOS 的通用栅极堆栈技术
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
IEEE Transactions on Electron Devices
影响因子:
3.1
作者:
[Su, Shaojian, Xue, Chunlai, Cheng, Buwen, Yeo, Yee-Chia]
通讯作者:
Yeo, Yee-Chia
Thermally Stable Multi-Phase Nickel-Platinum Stanogermanide Contacts for Germanium-Tin Channel MOSFETs
用于锗锡通道 MOSFET 的热稳定多相镍铂锗化物触点
DOI:
10.1149/2.014206esl
发表时间:
2012
期刊:
Electrochemical and Solid-state Letters
影响因子:
--
作者:
[Xue, Chunlai, Wang, Qiming, Cheng, Buwen, Yeo, Yee-Chia]
通讯作者:
Yeo, Yee-Chia
共 26 条
固-气混合分子束外延生长GeSn合金材料动力学研究
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批准号:--
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项目类别:--
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资助金额:52万元
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批准年份:2022
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负责人:成步文
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依托单位:
固—气混合分子束外延生长GeSn合金材料动力学研究
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批准号:62274160
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项目类别:面上项目
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资助金额:52.00万元
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批准年份:2022
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负责人:成步文
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依托单位:
锗锡合金中锡的迁移动力学研究
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批准号:61774143
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项目类别:面上项目
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资助金额:67.0万元
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批准年份:2017
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负责人:成步文
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依托单位:
硅基高速光接收机集成芯片基础研究
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批准号:61435013
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项目类别:重点项目
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资助金额:370.0万元
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批准年份:2014
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负责人:成步文
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依托单位:
硅基锗材料外延及其相关器件基础研究
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批准号:61036003
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项目类别:重点项目
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资助金额:200.0万元
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批准年份:2010
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负责人:成步文
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依托单位:
绝缘层上SiGe材料的制备及弛豫机理研究
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批准号:60676005
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项目类别:面上项目
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资助金额:30.0万元
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批准年份:2006
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负责人:成步文
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依托单位:
国内基金
海外基金