Measurements of acid generation by extreme ultraviolet irradiation in lithographic films
Measurements of acid generation by extreme ultraviolet irradiation in lithographic films
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光刻薄膜中极紫外线照射产生酸的测量
DOI：
10.1116/1.2779045
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发表时间：
2007
影响因子：
1.4
通讯作者：
G. Denbeaux
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Glodde;D. Goldfarb;D. Medeiros;G. Wallraff;G. Denbeaux
由于目前可用的极紫外光源强度低，极紫外光刻需要包含高效光酸发生器（PAGs）的光刻胶材料。因此，有必要了解在EUV照射下控制光刻胶酸生成机制的参数，如光酸发生器和碱猝灭剂结构、聚合物基质效应以及电离辐射与光刻胶组分的相互作用。本研究优化了一种基于染料指示剂（香豆素6）的已知酸检测技术，用于光刻抗蚀剂薄膜辐照产生的光酸量的定量。在以前的研究中已经采用了将酸碱指示剂结合到固体聚合物基质中；然而，迄今为止还没有考虑到反应物质的环境稳定性和聚合物树脂的影响。在这里，作者对暴露的pag进行了全面评估…
Extreme ultraviolet (EUV) lithography requires photoresist materials that incorporate highly efficient photoacid generators (PAGs) due to the low intensity of the currently available EUV light sources. It is therefore necessary to understand the parameters that control acid generation mechanisms in photoresists under EUV irradiation, such as photoacid generator and base quencher structure, polymer matrix effects, and the interaction of ionizing radiation with the resist components. In this study, a known acid detection technique based on a dye indicator (coumarin 6) has been optimized for the quantification of the amount of photoacid produced by irradiation of lithographic resist films. Incorporation of acid-base indicators to solid polymer matrices has already been employed in previous studies; however, the environmental stability of the reactive species and the influence of the polymer resin have not been considered to date. Here, the authors present a comprehensive evaluation of PAGs that were exposed ...
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用于后光学光刻的化学放大抗蚀剂中酸分布不均匀的潜在原因
DOI：
--
发表时间：
2005
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
--
作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
通讯作者：
H. Komano
化学放大极紫外光刻胶模型系统中的产酸效率
DOI：
--
发表时间：
2006
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
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--
作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;H. Oizumi;I. Nishiyama
通讯作者：
I. Nishiyama
EUVL 中快速光速化学放大抗蚀剂的开发
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
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T.Watanabe;H.Kinoshita;N.Sakaya;T.Shoki;S.Y.Lee
通讯作者：
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--
发表时间：
2006
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
--
作者：
A. Nakano;T. Kozawa;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
DOI：
--
发表时间：
2005
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子：
--
作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
通讯作者：
H. Komano