Dopant Enhanced Solid Phase Epitaxy in Silicon and Germanium

Dopant Enhanced Solid Phase Epitaxy in Silicon and Germanium
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硅和锗中的掺杂增强固相外延

DOI:
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发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
J.C.McCallu
J.C.McCallu
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
B.C.Johnson;T.Ohshima;J.C.McCallu

文献摘要

参考文献

被引文献

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