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U.S.-U.K. Cooperative Research: Determination of Gas Phase Structures of Molecular Precursors to Solid State Materials by Electron Diffraction

U.S.-U.K. Cooperative Research: Determination of Gas Phase Structures of Molecular Precursors to Solid State Materials by Electron Diffraction
美英合作研究:通过电子衍射测定固态材料分子前体的气相结构
批准号:
9213876
负责人:
Mark Hampden-Smith
金额:
$1.24万
依托单位:
依托单位国家:
美国
项目类别:
Standard Grant
财政年份:
1993
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1993-01-15 至 1995-06-30

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
这项为期两年的奖励将支持美国-英国合作研究 新墨西哥州大学的马克·J·汉普顿-史密斯 和爱丁堡大学的大卫兰金。 这 跨学科项目涉及固态材料制备 和化学合成及表征。 其目标是 确定各种挥发性和新的气相结构 有机铜前体,进行热分解研究 和沉积铜膜的表面研究。 这项研究是 专注于从根本上洞察高- 质量,图案化的铜薄膜。 在研究气相时 在有机铜前体方面,研究人员将 提供有关气相和气体的重要新信息 表面反应 汉普登-史密斯博士为这次合作带来了他在 固体中有机铜前驱体合成与表征 状态和解决方案。 他的小组将合成必要的 在墨西哥大学进行气相研究的化合物。 这是由独特的仪器在补充 爱丁堡大学和兰金博士在气相方面的专业知识 使用电子衍射技术进行结构表征。 总之,他们的研究可能会使存款更纯,低 温度下,表面上的铜膜质量比 目前可能。 //
英文摘要
This two-year award will support U.S.-U.K. cooperative research between Mark J. Hampden-Smith of the University of New Mexico and David Rankin of the University of Edinburgh. This interdisciplinary project involves solid state materials preparation and chemical synthesis and characterization. The objectives are to determine the gas phase structures of a variety of volatile and new organocopper precursors, perform thermal decomposition studies and surface studies of deposited copper films. The research is focused on deriving fundamental insight into the formation of high- quality, patterned copper thin films. In studying the gas phase aspects of the organocopper precursors, the investigators will provide important new information about the gas phase and gas surface reactions. Dr. Hampden-Smith brings to this collaboration his expertise in the synthesis and characterization of organocopper precursors in solid state and in solution. His group will synthesize the necessary compounds at the University of Mexico for the gas phase studies. This is complemented by the unique instrumentation at the University of Edinburgh and Dr. Rankin's expertise in gas phase structural characterization using electron diffraction techniques. Together, their research may allow the deposit of purer, low temperature, better quality copper films on surfaces than is currently possible. //
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专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Chemical Vapor Deposition of Early Transition Metal and Metal Nitride Films
  • 批准号:
    9632719
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 资助金额:
    $5.0万
  • 财政年份:
    1996
  • 负责人:
    Mark Hampden-Smith
  • 依托单位:
Copper and Silver Chemical Vapor Deposition: An Investigation of the Surface Chemistry
  • 批准号:
    9407089
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $39.6万
  • 财政年份:
    1994
  • 负责人:
    Mark Hampden-Smith
  • 依托单位:
Materials Chemistry Workshop
  • 批准号:
    9310246
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $3.58万
  • 财政年份:
    1993
  • 负责人:
    Mark Hampden-Smith
  • 依托单位:
New Cu(I) Precursors for CVD of Copper: An Investigation of the Gas Phase and Surface Chemistry
  • 批准号:
    9107035
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $35.9万
  • 财政年份:
    1991
  • 负责人:
    Mark Hampden-Smith
  • 依托单位:
海外基金