Ein molekularer Ansatz zur Herstellung elektrisch funktioneller Nanostrukturen mittels Dip-Pen-Nanolithographie (DPN)

Dip-Pen-Nanolithographie（DPN）是一种用于纳米结构的分子标记技术，它可以使纳米结构均匀地分布在表面上，并使其均匀地分布在表面上。因此，前体着色剂的制备方法必须采用韦尔登，即在硅、玻璃或荧光体上以小于50 nm的结构制备金属和金属氧化物。材料控制方法的研究主要集中在对结构特性的详细研究和对电子特性和材料微结构特性的研究上。DPN组件韦尔登的分子光刻工艺和纳米结构和平行化的化学制备方法的设计项目中，DPN组件系统的设计方法是一种”DPN-组件系统“，用于设计一种组件。

Das Ziel des Forschungsvorhabens ist es, mittels Dip-Pen-Nanolithographie (DPN) einen molekularen Ansatz zur Herstellung elektrisch funktioneller Nanostrukturen auf isolierenden und halbleitenden Oberflächen zu entwickeln. Durch das Schreiben geeigneter Precursor-Tinten sollen die in Vorarbeiten entwickelten chemischen Methoden genutzt werden, um Metalle und Metalloxide in Strukturen im Größenbereich < 50 nm auf Silicium-, Glas- oder Glimmeroberflächen zu schreiben und so funktionelle Demonstratoren zu entwickeln. Neben der Entwicklung von Methoden zur kontrollierten Materialabscheidung richtet sich der Fokus des Projektes auf die detaillierte Charakterisierung der Strukturen und auf die Untersuchung der Zusammenhänge zwischen den elektronischen Eigenschaften und der Mikrostruktur der geschriebenen Materialien. Damit soll in dem hier angestrebten Projekt die Lücke zwischen den etablierten chemisch-präparativen Methoden zur Herstellung von Nanostrukturen und dem parallelisierten, kostengünstigen und einfachen lithographischen Schreiben von Molekülen mittels DPN geschlossen werden, um auf diese Weise eine Art „DPN-Baukastensystem“ zur Herstellung einfacher Bauelemente zu schaffen.