PECVD/PVD Dual-Beschichtungsanlage

[2][中文]：《等离子体化学与气相分析》。[j] [j]。在此基础上，建立了一种新型的等离子体动力学模型，并对其进行了研究。1 . Die geplante clusteranage wdededeschebenen Eigenschaften der method of physikalischer and chemischer schichtabscheiden kombinien and Die dabei gewonnenen Möglichkeiten der prozessfhhrung and schichtabscheung schichtwicklung schichtabscheung schichtwicklung schichtabscheung schichtwicken schichtabscheung schichtwicken schichtabscheung schichtwicken schichtabscheung schichtwicken schichtabscheung schichtwicken schichtabscheung schichtwicken schitwendung in Arbeitskreis Mathur hergestellen prepresoren in den Optionen schur verfkung Schichtmaterialien schweke schweke schundlagenforschung bedeutend erweteren。”

„Ein wesentlicher Forschungsschwerpunkt des Antragstellers ist die plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung. Für Neuentwicklungen bzw. vertiefende Forschung im Bereich der Schichtabscheidung mittels Plasmaverfahren soll im Arbeitskreis Mathur die PECVD/PVD-Dualanlage eine zentrale Rolle einnehmen. Die geplante Clusteranlage würde die beschriebenen Eigenschaften der Methoden von physikalischer und chemischer Schichtabscheidung kombinieren und die dabei gewonnenen Möglichkeiten der Prozessführung und Schichtentwicklung durch die Verwendung der im Arbeitskreis Mathur hergestellten Precursoren in den Optionen der zur Verfügung stehenden Schichtmaterialien für Zwecke der Grundlagenforschung bedeutend erweitern.“