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Selective Reaction Control of CVD Process by a New Discharge Technique

Selective Reaction Control of CVD Process by a New Discharge Technique
新型放电技术对CVD过程的选择性反应控制
批准号:
01460117
负责人:
OKAZAKI Ken
金额:
$4.61万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份:
1989
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1989 至 1991

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
本文对超短高压脉冲放电等离子体进行了研究,重点研究了超短高压脉冲放电等离子体的结构控制,为等离子体CVD过程中自由基反应的主动控制提供了一种很有前途的技术。超短高压脉冲放电等离子体在极高的外加电压高达几千伏的情况下,成功地建立了稳定、均匀的等离子体,在电极或衬底表面没有任何等离子体的不均匀。阐明了维持超短脉冲等离子体的条件或标准。电流上升到电压上升的滞后时间随着外加电压的减小而增加,如果达到脉冲宽度的值,就不可能引发等离子体。阐明了超短高压脉冲等离子体的一些特殊特性,包括超高功率区的伏安特性、电流上升的滞后时间以及压力和脉冲宽度的影响,以及阴极和阳极之间的径向发射强度分布。高功率超短脉冲等离子体具有清晰的层状结构,在阳极附近有一个类似于已知正柱的发光区,在阴极附近有一个暗空间,这种结构只需通过压力、外加电压和阴阳极之间的距离来很好地控制。应用本研究开发的新技术,可以对等离子体CVD过程中的自由基反应和离子能量进行主动控制。
英文摘要
An ultra-short and high-voltage pulse discharge plasma has been studied focusing on the control of its structure as a promising technology for the active control of radical reactions in the plasma CVD processing, and the following conclusions have been obtained.1. Stable and uniform plasmas have been successfully established by the ultra-short and high-voltage pulse discharge plasma at very high applied voltages up to several kilovolts without any plasma non-uniformity on the electrode or substrate surface.2. The conditions or criteria to sustain the ultra-short pulse plasma have been clarified. The lag time of current rise from that of voltage increases with the decrease of applied voltage and if it reaches the value of pulse width the initiation of plasma becomes impossible.3. Several peculiar features of the ultra-short and high-voltage pulse plasma have been clarified including voltage-current characteristics at very high power regions, lag times of current rise and effects of pressure and pulse width, and radical emission intensity profiles between anode and cathode.4. The high-power and ultra-short pulse plasma has a well-defined stratified structure consisting of a luminous zone similar to a well-known positive column near the anode and a dark space near the cathode and this structure can be well controlled only by the parameters of pressure, applied voltage and distance between anode and cathode.5. Active control of radical reactions and ion energies in the plasma CVD processing could be possible by applying the new technique developed in this study.
期刊论文(28)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
K. Okazaki, A. Mizuno and Y. yamaguchi: "Structure of Ultra-Short Pulse Plasma for CVD Processing" Heat and Mass Transfer in Materials Processing. Hemisphere. 17-32 (1991)
K. Okazaki、A. Mizuno 和 Y. yamaguchi:“用于 CVD 处理的超短脉冲等离子体的结构”材料加工中的传热和传质。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
竹腰敬,戸部了己,佐藤圭,水野彰,岡崎健: "プラズマCVDにおける反応制御へのパルス放電の応用に関する検討" 第27回日本伝熱シンポジウム講演論文集. (1990)
Takashi Takekoshi、Ryomi Tobe、Kei Sato、Akira Mizuno、Ken Okazaki:“脉冲放电在等离子体 CVD 反应控制中的应用研究”第 27 届日本传热研讨会论文集(1990 年)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
岡崎 健,戸部 了己,安田 真一,水野 彰: "CVD用高電圧極短パルスプラズマ構造の能動的制御" 第29回日本伝熱シンポジウム講演論文集. (1992)
Ken Okazaki、Ryomi Tobe、Shinichi Yasuda、Akira Mizuno:“CVD 高压超短脉冲等离子体结构的主动控制”第 29 届日本传热研讨会论文集(1992 年)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
岡崎 健,竹腰 敬,戸部 了己,水野 彰: "極短DCパルス放電プラズマの構造とそのCVDプロセスへの適用" 日本機械学会熱工学部門講演会講演論文集. 103-104 (1990)
Ken Okazaki、Takashi Takekoshi、Ryomi Tobe、Akira Mizuno:“超短直流脉冲放电等离子体的结构及其在 CVD 工艺中的应用”日本机械工程师学会热工分会会议记录 103-104 (1990)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
共 13 条
    Fundamental research for reduction of pollutant emission of coal combustion for zero CO_2 emission
    • 批准号:
      21246035
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $29.45万
    • 财政年份:
      2009
    • 负责人:
      OKAZAKI Ken
    • 依托单位:
    Analysis of early degenerative changes of arthritis cartilage
    • 批准号:
      19591758
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.83万
    • 财政年份:
      2007
    • 负责人:
      OKAZAKI Ken
    • 依托单位:
    Fundemental study of multi-path biomass gasification system for hydrogen production
    • 批准号:
      15206022
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $31.03万
    • 财政年份:
      2003
    • 负责人:
      OKAZAKI Ken
    • 依托单位:
    Microscale transport Phenomena for high performance polymer electrolyte fuel cells
    • 批准号:
      12555056
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $6.27万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      OKAZAKI Ken
    • 依托单位:
    海外基金