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Modeling the Chemical Vapor Deposition (Cvd) and Transport (Cvt) of Refractory Materials

模拟耐火材料的化学气相沉积 (Cvd) 和传输 (Cvt)

基本信息

批准号：
8109260
负责人：
Karl Spear
金额：
$ 12.38万
依托单位：
Pennsylvania State Univ University Park
依托单位国家：
美国
项目类别：
Continuing Grant
财政年份：
1981
资助国家：
美国
起止时间：
1981-07-01 至 1983-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8109260&HistoricalAwards=false
关键词：
Modeling Chemical Vapor Deposition Cvd

项目摘要

项目成果

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数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

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{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

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{{ item.doi }}
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{{ item.factor }}
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{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

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