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Ion Beam Deposition of Cubic Boron Nitride As a Hard Coating From Borazine
离子束沉积立方氮化硼作为硼嗪硬质涂层
基本信息
- 批准号：8113365
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1981
- 资助国家：美国
- 起止时间：1981-10-01 至 1982-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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会议论文数量（0）
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{{ truncateString('Stanley Vernon', 18)}}的其他基金
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- 资助金额：
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9761075 - 财政年份：1998
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Standard Grant
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SBIR 第一阶段：GaN 和 InGaN 的高压金属有机化学气相沉积生长
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- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
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STTR 第一阶段：用于低压电致发光显示器的塑料上金属有机化学气相沉积生长
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9632164 - 财政年份：1996
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Standard Grant
相似国自然基金
完全共振高次带导数Beam方程的拟周期解研究
- 批准号：12301229
- 批准年份：2023
- 资助金额：30.00 万元
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基于CPU+多GPU构架的图像引导放疗低剂量Cone Beam CT高质量重建系统的研究
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- 批准号：11475234
- 批准年份：2014
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相似海外基金
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通过下一代微波离子束沉积制造的高性能激光端面光学涂层
- 批准号：
2283744 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Studentship
Development of organometallic molecular ion beam deposition method for the stoichiometric crystal growth
化学计量晶体生长有机金属分子离子束沉积方法的发展
- 批准号：
17H02997 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Developing low noise coatings for GW detectors, using next generation techniques such as ECR ion-beam deposition, and plasma-assisted deposition.
使用 ECR 离子束沉积和等离子体辅助沉积等下一代技术，开发用于 GW 探测器的低噪声涂层。
- 批准号：
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Studentship
Application of ion beam induced chemical vapor deposition for SiC film formation
离子束诱导化学气相沉积在SiC薄膜形成中的应用
- 批准号：
25287154 - 财政年份：2013
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MRI: Development of an Ion-Beam-assisted Glancing Angle Deposition Tool (iGLAD) for 3D Nanostructure Thin Film Preparation with in-situ Ellipsometry control
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- 批准号：
1337856 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
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Well-ordered arranging of metal nanoparticles by low-energy ion beam irradiation and deposition
通过低能离子束辐照和沉积实现金属纳米颗粒的有序排列
- 批准号：
22510113 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Systematic investigation of the ion beam sputter deposition process of TiO2
TiO2 离子束溅射沉积过程的系统研究
- 批准号：
191257240 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Research Grants
Relationship between Nano-topology and Corrosion Resistance of Metallic Thin Films Prepared by Ion-Beam-Sputter Deposition Method
离子束溅射沉积法制备金属薄膜的纳米拓扑结构与耐腐蚀性能的关系
- 批准号：
19560718 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Preparation and Molecular Dynamics Evaluation of Super Hard BN Film by Ion-Beam-Assisted Deposition
离子束辅助沉积超硬BN薄膜的制备及分子动力学评价
- 批准号：
17560078 - 财政年份：2005
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
IMR: Acquisition of a Biased Target Ion Beam Deposition System for Materials Research & Integrated Education Activities
IMR：采购用于材料研究的偏置目标离子束沉积系统
- 批准号：
0415202 - 财政年份：2004
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Continuing grant