High Current Ion Implantation

高电流离子注入

基本信息

  • 批准号:
    8114287
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.9万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    1981
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    1981-10-01 至 1982-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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  • 通讯作者:
    Brian R. McAuslan

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
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    {{ item.doi }}
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    {{ item.publish_year }}
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    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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    22H03880
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设计和开发金属表面等离子体浸没离子注入工艺,以提高生物医学设备的生物和血液相容性
  • 批准号:
    538280-2018
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 2.9万
  • 项目类别:
    Collaborative Research and Development Grants
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    2021
  • 资助金额:
    $ 2.9万
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  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 2.9万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Designing and developing processes for plasma immersion ion implantation of metallic surfaces for improving bio- and hemo-compatibility for biomedical devices
设计和开发金属表面等离子体浸没离子注入工艺,以提高生物医学设备的生物和血液相容性
  • 批准号:
    538280-2018
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 2.9万
  • 项目类别:
    Collaborative Research and Development Grants
{{ showInfoDetail.title }}

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知道了