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Research Initiation: the Kinetics of the Selective Deposition of Tungsten

Research Initiation: the Kinetics of the Selective Deposition of Tungsten
研究启动：钨选择性沉积动力学
批准号：
8307242
负责人：
Carol McConica
金额：
$4.79万
依托单位：
Colorado State University
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1983
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1983-06-01 至 1985-11-30
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8307242&HistoricalAwards=false
关键词：
ResearchInitiationKineticsSelectiveDeposition

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LT: Nonflowing Chemical Processing for Thin Film Manufacturing
  • 批准号：
    9727334
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $5.0万
  • 财政年份：
    1997
  • 负责人：
    Carol McConica
  • 依托单位：
    Colorado State University
FAW: In Situ Elucidation of Reaction Pathways During Low Pressure Chemical Vapor Deposition
  • 批准号：
    9023931
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $25.0万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    Carol McConica
  • 依托单位：
    Colorado State University
Reaction Steps and Mechanism for Chemical Vapor Deposition of Tungsten
  • 批准号：
    8712016
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $31.27万
  • 财政年份：
    1987
  • 负责人：
    Carol McConica
  • 依托单位：
    Colorado State University
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