US-Japan Joint Seminar: Focused Ion Beam Process / Osaka, Japan / November, 1987
US-Japan Joint Seminar: Focused Ion Beam Process / Osaka, Japan / November, 1987
批准号:
8613750
负责人:
John Melngailis
金额:
$0.0万
依托单位国家:
美国
项目类别:
Standard Grant
财政年份:
1987
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1987-04-01 至 1988-12-31
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会议论文
U.S.-Japan Joint Seminar: Formation of Ion Nanobeams and Application to Material Processing
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批准号:9603429
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$2.07万
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财政年份:1997
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负责人:John Melngailis
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依托单位:
Ion Induced Microprocessing
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批准号:9202633
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项目类别:Continuing grant
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资助金额:$0.0万
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财政年份:1992
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负责人:John Melngailis
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依托单位:
"Focused Ion Beam Implantation of GaAs Integrated Circuits"
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批准号:8921728
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项目类别:Continuing grant
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资助金额:$0.0万
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财政年份:1990
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负责人:John Melngailis
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依托单位:
Coupling of Surface Acoustic Waves in Gratings to Bulk PlateModes -- Properties and Applications
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批准号:8017705
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项目类别:Continuing grant
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资助金额:$0.0万
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财政年份:1981
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负责人:John Melngailis
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依托单位:
Electron Beam Evaporator For Submicron Structures Laboratory
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批准号:8105650
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$0.0万
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财政年份:1981
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负责人:John Melngailis
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依托单位:
海外基金