刷新
{{item.name}}会员
Electron Beam Evaporator For Submicron Structures Laboratory
亚微米结构实验室电子束蒸发器
基本信息
- 批准号：8105650
- 负责人：
- 金额：--
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1981
- 资助国家：美国
- 起止时间：1981-05-01 至 1982-10-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ patent.updateTime }}
John Melngailis其他文献
John Melngailis的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
{{ truncateString('John Melngailis', 18)}}的其他基金
U.S.-Japan Joint Seminar: Formation of Ion Nanobeams and Application to Material Processing
美日联合研讨会：离子纳米束的形成及其在材料加工中的应用
- 批准号：
9603429 - 财政年份：1997
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Standard Grant
"Focused Ion Beam Implantation of GaAs Integrated Circuits"
《砷化镓集成电路的聚焦离子束注入》
- 批准号：
8921728 - 财政年份：1990
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Continuing grant
US-Japan Joint Seminar: Focused Ion Beam Process / Osaka, Japan / November, 1987
美日联合研讨会：聚焦离子束工艺 / 日本大阪 / 1987 年 11 月
- 批准号：
8613750 - 财政年份：1987
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Standard Grant
Coupling of Surface Acoustic Waves in Gratings to Bulk PlateModes -- Properties and Applications
光栅中的表面声波与体板模式的耦合——特性和应用
- 批准号：
8017705 - 财政年份：1981
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Continuing grant
相似国自然基金
完全共振高次带导数Beam方程的拟周期解研究
- 批准号：12301229
- 批准年份：2023
- 资助金额：30.00 万元
- 项目类别：青年科学基金项目
基于CPU+多GPU构架的图像引导放疗低剂量Cone Beam CT高质量重建系统的研究
- 批准号：81803056
- 批准年份：2018
- 资助金额：21.0 万元
- 项目类别：青年科学基金项目
基于SiPM的高性能In-Beam TOF-PET的研究
- 批准号：11475234
- 批准年份：2014
- 资助金额：100.0 万元
- 项目类别：面上项目
相似海外基金
An electronbeam evaporator for realtime and precise flux control for molecular beam epitaxy
用于分子束外延实时精确通量控制的电子束蒸发器
- 批准号：
RTI-2022-00382 - 财政年份：2021
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Research Tools and Instruments
Urgent replacement of a power supply of an electron-beam evaporator for thin films deposition
紧急更换用于薄膜沉积的电子束蒸发器的电源
- 批准号：
RTI-2020-00773 - 财政年份：2019
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Research Tools and Instruments
Multi-chamber electron beam evaporator system with targeted gas supply for the production of electrical contacts and thin functional layers
具有目标气体供应的多室电子束蒸发器系统，用于生产电接触和薄功能层
- 批准号：
427615366 - 财政年份：2019
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Major Research Instrumentation
Refurbishment of a 17-Year Old E-Beam Evaporator System
翻新已有 17 年历史的电子束蒸发器系统
- 批准号：
RTI-2019-00527 - 财政年份：2018
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Research Tools and Instruments
MRI: Acquisition of an E-Beam Evaporator for Interdisciplinary Research and Education
MRI：购买电子束蒸发器用于跨学科研究和教育
- 批准号：
1338012 - 财政年份：2013
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Standard Grant
MRI-R2: Acquisition of an Electron-Beam Evaporator for Undergraduate Research
MRI-R2：为本科生研究购买电子束蒸发器
- 批准号：
0958900 - 财政年份：2010
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Standard Grant
MRI: Acquisition of a multi-pocket e-beam evaporator for nano/micro facility at CCNY
MRI：为 CCNY 的纳米/微米设施采购多腔电子束蒸发器
- 批准号：
0922903 - 财政年份：2009
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Standard Grant
Load-locked E-Beam metal evaporator ffor AMPEL nanofabrication facility
用于 AMPEL 纳米加工设施的负载锁定电子束金属蒸发器
- 批准号：
376180-2009 - 财政年份：2008
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Research Tools and Instruments - Category 1 (<$150,000)
Electron-beam evaporator for metals deposition
用于金属沉积的电子束蒸发器
- 批准号：
300416-2004 - 财政年份：2004
- 资助金额：
-- - 项目类别：
Research Tools and Instruments - Category 1 (<$150,000)